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東京エレクトロン株式会社

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  2013年 出願公開件数ランキング    第60位 712件 下降2012年:第53位 714件)

  2013年 特許取得件数ランキング    第45位 796件 下降2012年:第37位 902件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5358956 載置台装置、処理装置、温度制御方法及び記憶媒体 2013年12月 4日
特許 5357487 シリコン酸化膜の形成方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体およびプラズマ酸化処理装置 2013年12月 4日
特許 5358366 基板処理装置及び方法 2013年12月 4日
特許 5359642 成膜方法 2013年12月 4日
特許 5358138 検査装置 2013年12月 4日
特許 5359285 処理装置及び処理装置の運転方法 2013年12月 4日
特許 5358651 熱処理方法及び熱処理装置 2013年12月 4日
特許 5359286 超臨界処理装置、基板処理システム及び超臨界処理方法 2013年12月 4日
特許 5361457 プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用の電極 2013年12月 4日
特許 5356522 化学処理及び熱処理用高スループット処理システム及びその動作方法 2013年12月 4日
特許 5361657 プライミング処理方法及びプライミング処理装置 2013年12月 4日
特許 5361847 基板処理方法、この基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体及び基板処理装置 2013年12月 4日
特許 5360069 プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 2013年12月 4日
特許 5357694 位置ずれ防止装置、これを備えた基板保持具、基板搬送装置および基板搬送方法 2013年12月 4日
特許 5361189 改良されたバフル板のための方法及び装置 2013年12月 4日

794 件中 61-75 件を表示

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5358956 5357487 5358366 5359642 5358138 5359285 5358651 5359286 5361457 5356522 5361657 5361847 5360069 5357694 5361189

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