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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5629098 | シリコン基板上のパターン修復方法 | 2014年11月19日 | |
| 特許 5626736 | 接合装置、接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2014年11月19日 | |
| 特許 5627984 | 成膜方法、成膜装置及び半導体装置の製造方法 | 2014年11月19日 | |
| 特許 5623104 | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 | 2014年11月12日 | 共同出願 |
| 特許 5622701 | 減圧乾燥装置 | 2014年11月12日 | |
| 特許 5622282 | 基板裏面洗浄装置 | 2014年11月12日 | |
| 特許 5623722 | プラズマエッチング装置用シリコン製部品の再生方法 | 2014年11月12日 | |
| 特許 5617708 | 蓋体開閉装置 | 2014年11月 5日 | |
| 特許 5618425 | 周辺露光方法及び周辺露光装置 | 2014年11月 5日 | |
| 特許 5617065 | 剥離方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び剥離システム | 2014年11月 5日 | 共同出願 |
| 特許 5619486 | フォーカスリング、その製造方法及びプラズマ処理装置 | 2014年11月 5日 | 共同出願 |
| 特許 5614418 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 | 2014年10月29日 | |
| 特許 5616205 | 基板処理システム、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2014年10月29日 | |
| 特許 5615576 | 基板処理装置用の多孔板の製造方法及び多孔板 | 2014年10月29日 | |
| 特許 5614352 | ローディングユニット及び処理システム | 2014年10月29日 |
694 件中 61-75 件を表示
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5629098 5626736 5627984 5623104 5622701 5622282 5623722 5617708 5618425 5617065 5619486 5614418 5616205 5615576 5614352
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