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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4820007 | 被処理体の搬送方法 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4820006 | 被処理体の搬送システム及び被処理体の搬送方法 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4823690 | 成膜方法および半導体装置の製造方法 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4821078 | 成膜装置及びその累積膜厚の管理方法 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4820008 | 被処理体の搬送システム及び被処理体の搬送方法 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4821074 | 処理システム | 2011年11月24日 | |
| 特許 4819244 | プラズマ処理装置 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4823628 | 基板処理方法および記録媒体 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4823635 | 成膜方法およびコンピュータ可読記録媒体 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4819267 | パルスプラズマ処理方法および装置 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4819106 | 基板処理装置及び温度調節装置 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4819411 | プラズマ処理装置 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4816545 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4817210 | 成膜装置および成膜方法 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4816052 | 半導体製造装置及び半導体装置の製造方法 | 2011年11月16日 |
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4820007 4820006 4823690 4821078 4820008 4821074 4819244 4823628 4823635 4819267 4819106 4819411 4816545 4817210 4816052
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