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東京エレクトロン株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第60位 712件
（
2012年：第53位 714件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第45位 796件
（2012年：第37位 902件）
（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5346699 | Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ膜の成膜方法および記憶媒体、ならびにＰＲＡＭの製造方法 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5344824 | レジストパターンの形成方法および記録媒体 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5346904 | 縦型成膜装置およびその使用方法 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5349066 | ＣＤバイアスの減少したシリコン含有反射防止コーティング層のエッチング方法 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5341510 | 窒化珪素膜の形成方法、半導体装置の製造方法およびプラズマＣＶＤ装置 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5338335 | 搬送容器の開閉装置及びプローブ装置 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5338777 | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5342295 | ゲートバルブ装置 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5338897 | 光増感色素の色素吸着方法及び吸着装置、色素増感太陽電池の製造方法及び製造装置 | 2013年11月13日 | 共同出願 |
| 特許 5341986 | 蒸着処理装置および蒸着処理方法 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5343488 | プローブ装置 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5340103 | 太陽電池 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5340299 | 蒸着装置、蒸着方法およびプログラムを記憶した記憶媒体 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5343369 | 半導体装置の製造方法、半導体製造装置及び記憶媒体 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5342811 | 半導体装置の製造方法 | 2013年11月13日 |
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5346699 5344824 5346904 5349066 5341510 5338335 5338777 5342295 5338897 5341986 5343488 5340103 5340299 5343369 5342811
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