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東京エレクトロン株式会社

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　■　2019年出願公開件数ランキング　　　第58位　660件（2018年：第67位　588件）

　■　2019年特許取得件数ランキング　　　第58位　415件（2018年：第50位　503件）

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2019-537254	ビア対グリッドのパターニングにおけるオーバレイエラーを減少する方法	2019年12月19日
特表 2019-537266	サブ解像度基板パターニング方法	2019年12月19日
特開 2019-214011	脱泡装置および脱泡方法	2019年12月19日
特開 2019-214109	加工装置の調整方法及び加工装置	2019年12月19日
特開 2019-215562	現像可能な底部反射防止コーティングおよび着色注入レジストのための化学増幅方法および技術	2019年12月19日
特開 2019-216140	成膜装置及び成膜装置におけるクリーニング方法	2019年12月19日
特開 2019-216150	クリーニング方法	2019年12月19日
特開 2019-216151	基板処理装置	2019年12月19日
特開 2019-216163	静電チャック、フォーカスリング、支持台、プラズマ処理装置、及びプラズマ処理方法	2019年12月19日
特開 2019-216164	プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の高周波電源を制御する方法	2019年12月19日
特開 2019-216170	基板処理装置および基板処理方法	2019年12月19日
特開 2019-216176	載置台、基板処理装置及びエッジリング	2019年12月19日
特開 2019-216182	成膜装置	2019年12月19日
特開 2019-216215	基板処理装置及び基板処理方法	2019年12月19日
特開 2019-216235	処理方法およびプラズマ処理装置	2019年12月19日

665 件中 31-45 件を表示

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2019-537254 2019-537266 2019-214011 2019-214109 2019-215562 2019-216140 2019-216150 2019-216151 2019-216163 2019-216164 2019-216170 2019-216176 2019-216182 2019-216215 2019-216235

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