特許ランキング - 出願人詳細情報 -
東京エレクトロン株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第60位 712件
（
2012年：第53位 714件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第45位 796件
（2012年：第37位 902件）
（ランキング更新日：2020年7月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5375853 | 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5374748 | 絶縁膜の形成方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体および処理システム | 2013年12月25日 | |
| 特許 5379732 | 基板処理装置 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5378706 | プラズマ処理装置及びそれに用いられる処理ガス供給装置 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5374961 | 塗布、現像装置、及び塗布、現像装置の搬送アーム洗浄方法、並びに記憶媒体 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5374079 | 検査用接触構造体 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5375871 | 液処理装置、液処理方法、コンピュータプログラムを格納した記憶媒体 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5378447 | 塗布、現像装置 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5374039 | 基板処理方法、基板処理装置及び記憶媒体 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5374749 | 絶縁膜の形成方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体および処理システム | 2013年12月25日 | |
| 特許 5376816 | マイクロ波導入機構、マイクロ波プラズマ源およびマイクロ波プラズマ処理装置 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5378586 | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5379589 | 真空吸着パッド、搬送アーム及び基板搬送装置 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5379773 | めっき処理装置及びめっき処理方法並びにめっき処理プログラムを記録した記録媒体 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5375852 | 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 | 2013年12月25日 |
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5375853 5374748 5379732 5378706 5374961 5374079 5375871 5378447 5374039 5374749 5376816 5378586 5379589 5379773 5375852
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