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東京エレクトロン株式会社

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 ■ 2025年 出願公開件数ランキング    第34位 660件 (下降2024年:第27位 725件)

 ■ 2025年 特許取得件数ランキング    第23位 835件 (上昇2024年:第25位 801件)

(ランキング更新日:2026年10月16日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2025-188311 基板処理装置および基板処理方法 2025年12月25日
特開 2025-188282 基板搬送装置及び基板搬送方法 2025年12月25日
特開 2025-188223 単一の誘電体部、静電チャック、基板支持器、及びプラズマ処理装置 2025年12月25日
特開 2025-187379 成膜方法及び成膜装置 2025年12月25日
特開 2025-187380 成膜方法及び成膜装置 2025年12月25日
特開 2025-187646 基板処理方法および基板処理装置 2025年12月25日
特開 2025-187815 基板に成膜を行う方法及び基板に成膜を行う装置 2025年12月25日
特開 2025-186741 ケーブル接続方法、接続部材の製造方法、および熱処理装置 2025年12月24日
特表 2025-542021 触媒強化化学気相成長法 2025年12月24日
特開 2025-185830 基板加熱装置及び基板加熱方法 2025年12月23日
特開 2025-185885 接合装置、および情報処理方法 2025年12月23日
特開 2025-186436 プラズマ処理装置及び基板支持器 2025年12月23日
特開 2025-185294 成膜方法及び成膜装置 2025年12月22日
特開 2025-185426 調整処理装置、成膜処理システム、調整処理方法及び調整処理プログラム 2025年12月22日
特開 2025-185545 プラズマ処理装置及び上部電極 2025年12月22日

665 件中 1-15 件を表示

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2025-188311 2025-188282 2025-188223 2025-187379 2025-187380 2025-187646 2025-187815 2025-186741 2025-542021 2025-185830 2025-185885 2025-186436 2025-185294 2025-185426 2025-185545

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