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東京エレクトロン株式会社

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  2018年 出願公開件数ランキング    第67位 588件 上昇2017年:第83位 585件)

  2018年 特許取得件数ランキング    第50位 503件 上昇2017年:第66位 431件)

(ランキング更新日:2024年11月29日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2018-174208 基板搬送装置及び基板搬送方法 2018年11月 8日
特開 2018-174210 処理システム 2018年11月 8日
特開 2018-174235 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 2018年11月 8日
特開 2018-174255 基板液処理装置、基板液処理方法及び記憶媒体 2018年11月 8日
特開 2018-174257 基板液処理装置 2018年11月 8日
特開 2018-174258 基板液処理装置、基板液処理方法及び記憶媒体 2018年11月 8日
特開 2018-174301 秤量装置、基板液処理装置、秤量方法、基板液処理方法及び記憶媒体 2018年11月 8日
特開 2018-174332 基板処理方法、基板処理装置及び記録媒体 2018年11月 8日
特開 2018-174346 基板洗浄システム、基板洗浄方法および記憶媒体 2018年11月 8日
特表 2018-532271 インターコネクトのための選択的なボトムアップ式金属フィーチャ充填 2018年11月 1日
特開 2018-168474 プラズマ処理装置用の部品の製造方法 2018年11月 1日
特開 2018-169198 静電容量測定用の測定器 2018年11月 1日
特開 2018-169910 流量制御器を検査する方法及び被処理体を処理する方法 2018年11月 1日
特開 2018-170205 流体加熱器、流体制御装置、および流体加熱器の製造方法 2018年11月 1日
特開 2018-170307 金属汚染防止方法及び成膜装置 2018年11月 1日

591 件中 106-120 件を表示

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2018-174208 2018-174210 2018-174235 2018-174255 2018-174257 2018-174258 2018-174301 2018-174332 2018-174346 2018-532271 2018-168474 2018-169198 2018-169910 2018-170205 2018-170307

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