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東京エレクトロン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
（ランキング更新日：2025年2月18日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2019-186290 | 温調システム | 2019年10月24日 | |
| 特開 2019-186304 | 接合装置および接合方法 | 2019年10月24日 | |
| 特開 2019-186306 | ボロン系膜の成膜方法および成膜装置 | 2019年10月24日 | |
| 特開 2019-186314 | 接合システムおよび接合方法 | 2019年10月24日 | |
| 特開 2019-186322 | 被加工物の処理方法 | 2019年10月24日 | |
| 特開 2019-186334 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2019年10月24日 | |
| 特開 2019-186335 | 基板処理装置と基板処理方法 | 2019年10月24日 | |
| 特開 2019-186361 | 結露防止方法および処理装置 | 2019年10月24日 | |
| 特開 2019-186400 | プラズマ処理装置、プラズマ制御方法、及びプラズマ制御プログラム | 2019年10月24日 | |
| 特開 2019-186405 | 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2019年10月24日 | |
| 特開 2019-186409 | 成膜装置、及び成膜方法 | 2019年10月24日 | |
| 特開 2019-186416 | 熱処理装置及び熱処理方法 | 2019年10月24日 | |
| 特開 2019-186433 | 静電チャック、基板処理装置、及び、基板保持方法 | 2019年10月24日 | |
| 特開 2019-186474 | ボロン系膜の成膜方法および成膜装置 | 2019年10月24日 | |
| 特開 2019-186487 | 処理装置及び処理装置の制御方法 | 2019年10月24日 |
665 件中 166-180 件を表示
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2019-186290 2019-186304 2019-186306 2019-186314 2019-186322 2019-186334 2019-186335 2019-186361 2019-186400 2019-186405 2019-186409 2019-186416 2019-186433 2019-186474 2019-186487
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