特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2019年出願公開件数ランキング　　　第58位　660件（2018年：第67位　588件）

　■　2019年特許取得件数ランキング　　　第58位　415件（2018年：第50位　503件）

（ランキング更新日：2025年6月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2019-186290	温調システム	2019年10月24日
特開 2019-186304	接合装置および接合方法	2019年10月24日
特開 2019-186306	ボロン系膜の成膜方法および成膜装置	2019年10月24日
特開 2019-186314	接合システムおよび接合方法	2019年10月24日
特開 2019-186322	被加工物の処理方法	2019年10月24日
特開 2019-186334	プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	2019年10月24日
特開 2019-186335	基板処理装置と基板処理方法	2019年10月24日
特開 2019-186361	結露防止方法および処理装置	2019年10月24日
特開 2019-186400	プラズマ処理装置、プラズマ制御方法、及びプラズマ制御プログラム	2019年10月24日
特開 2019-186405	基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2019年10月24日
特開 2019-186409	成膜装置、及び成膜方法	2019年10月24日
特開 2019-186416	熱処理装置及び熱処理方法	2019年10月24日
特開 2019-186433	静電チャック、基板処理装置、及び、基板保持方法	2019年10月24日
特開 2019-186474	ボロン系膜の成膜方法および成膜装置	2019年10月24日
特開 2019-186487	処理装置及び処理装置の制御方法	2019年10月24日

665 件中 166-180 件を表示

... 12

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2019-186290 2019-186304 2019-186306 2019-186314 2019-186322 2019-186334 2019-186335 2019-186361 2019-186400 2019-186405 2019-186409 2019-186416 2019-186433 2019-186474 2019-186487

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数