特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2019年出願公開件数ランキング　　　第58位　660件（2018年：第67位　588件）

　■　2019年特許取得件数ランキング　　　第58位　415件（2018年：第50位　503件）

（ランキング更新日：2025年2月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2019-194943	マイクロ波出力装置及びプラズマ処理装置	2019年11月 7日
特開 2019-194958	熱処理装置	2019年11月 7日
特開 2019-194960	塗布装置、塗布方法および有機ＥＬディスプレイ	2019年11月 7日
特開 2019-195010	基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2019年11月 7日
特開 2019-195014	基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法	2019年11月 7日
特開 2019-195016	温度監視装置、熱処理装置及び温度監視方法	2019年11月 7日
特開 2019-195017	温調機構及び液処理装置	2019年11月 7日
特開 2019-189908	成膜装置および成膜方法	2019年10月31日
特開 2019-192152	切替装置及び切替方法	2019年10月31日
特開 2019-192606	アンテナ装置、および、プラズマ処理装置	2019年10月31日
特開 2019-192725	有機領域をエッチングする方法	2019年10月31日
特開 2019-192726	プラズマ処理方法	2019年10月31日
特開 2019-192727	プラズマ処理方法	2019年10月31日
特開 2019-192728	温度制御方法	2019年10月31日
特開 2019-192733	処理装置及び埋め込み方法	2019年10月31日

665 件中 121-135 件を表示

... 9

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2019-194943 2019-194958 2019-194960 2019-195010 2019-195014 2019-195016 2019-195017 2019-189908 2019-192152 2019-192606 2019-192725 2019-192726 2019-192727 2019-192728 2019-192733

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数