ホーム > 特許ランキング > 東京エレクトロン株式会社 > 2019年 > 出願公開一覧
東京エレクトロン株式会社
※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
（ランキング更新日：2025年6月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2019-54032 | シリコン酸化膜を形成する方法および装置 | 2019年 4月 4日 | |
| 特開 2019-54093 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | 2019年 4月 4日 | |
| 特開 2019-54104 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | 2019年 4月 4日 | |
| 特開 2019-54113 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2019年 4月 4日 | |
| 特開 2019-54252 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2019年 4月 4日 | |
| 再表 2017-183504 | 処理装置のメンテナンス制御方法及び制御装置 | 2019年 3月28日 | |
| 再表 2017-221807 | 被処理体を処理する方法 | 2019年 3月28日 | |
| 特表 2019-508889 | メモリフィンパターンを形成するための方法及びシステム | 2019年 3月28日 | |
| 特開 2019-49016 | 成膜装置及び成膜方法 | 2019年 3月28日 | |
| 特開 2019-49747 | ネガティブトーン現像剤相溶性フォトレジスト組成物及び使用方法 | 2019年 3月28日 | |
| 特開 2019-50235 | 半導体装置 | 2019年 3月28日 | |
| 特開 2019-50287 | 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ記憶媒体 | 2019年 3月28日 | |
| 特開 2019-50311 | 処理液供給装置 | 2019年 3月28日 | |
| 特開 2019-50331 | 電圧印加装置および出力電圧波形の形成方法 | 2019年 3月28日 | |
| 特開 2019-50342 | 被加工物を処理する方法 | 2019年 3月28日 |
665 件中 496-510 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2019-54032 2019-54093 2019-54104 2019-54113 2019-54252 2017-183504 2017-221807 2019-508889 2019-49016 2019-49747 2019-50235 2019-50287 2019-50311 2019-50331 2019-50342
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月5日(木) -
6月6日(金) -
6月4日(水) -
6月10日(火) -
6月10日(火) -
6月11日(水) -
6月11日(水) -
6月12日(木) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月10日(火) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
〒330-0846 埼玉県さいたま市大宮区大門町3-205 ＡＢＣビル401 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都武蔵野市吉祥寺本町１丁目35-14-202 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 鑑定 コンサルティング
大阪府大阪市中央区北浜３丁目５－１９ 淀屋橋ホワイトビル２階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
