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東京エレクトロン株式会社

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  2019年 出願公開件数ランキング    第58位 660件 上昇2018年:第67位 588件)

  2019年 特許取得件数ランキング    第58位 415件 下降2018年:第50位 503件)

(ランキング更新日:2024年12月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2019-47111 搬送装置、基板処理装置及び搬送方法 2019年 3月22日
特開 2019-47131 塗布、現像方法、記憶媒体及び塗布、現像装置 2019年 3月22日
特開 2019-47137 エッチング方法及びプラズマ処理装置 2019年 3月22日
特表 2019-507382 光増感化学増幅レジスト(PS−CAR)シミュレーション 2019年 3月14日
特表 2019-507383 光増感化学増幅レジスト(PS−CAR)モデル較正 2019年 3月14日
特表 2019-507505 等方性シリコン及びシリコンゲルマニウムの調整可能な選択性を備えたエッチング 2019年 3月14日
特開 2019-39022 成膜装置及びガス供給機構 2019年 3月14日
特開 2019-40853 測定装置、測定方法及びプラズマ処理装置 2019年 3月14日
特開 2019-40922 下地膜の評価方法及び評価装置 2019年 3月14日
特開 2019-40947 基板処理装置及び基板搬送方法 2019年 3月14日
特開 2019-40958 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 2019年 3月14日
特開 2019-40959 エッチング方法及びエッチング処理装置 2019年 3月14日
特開 2019-41020 被処理体を処理する方法 2019年 3月14日
特開 2019-41021 被処理体を処理する方法 2019年 3月14日
特開 2019-41024 冷媒用の流路を有する部材、冷媒用の流路を有する部材の制御方法及び基板処理装置 2019年 3月14日

665 件中 526-540 件を表示

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2019-47111 2019-47131 2019-47137 2019-507382 2019-507383 2019-507505 2019-39022 2019-40853 2019-40922 2019-40947 2019-40958 2019-40959 2019-41020 2019-41021 2019-41024

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