特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第43位　773件（2019年：第58位　660件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第54位　436件（2019年：第58位　415件）

（ランキング更新日：2025年2月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2020-15157	加工装置	2020年 1月30日
特開 2020-15158	加工装置	2020年 1月30日
特開 2020-15951	成膜方法及び成膜装置	2020年 1月30日
特開 2020-15980	（２００）結晶学的集合組織を有する窒化チタン膜を形成するための方法	2020年 1月30日
特開 2020-16255	伸縮装置	2020年 1月30日
特開 2020-16592	検出装置、マイクロ波出力装置及びプラズマ処理装置	2020年 1月30日
特開 2020-17105	基板処理装置周囲の監視システム	2020年 1月30日
特開 2020-17569	エッチング方法及びエッチング装置	2020年 1月30日
特開 2020-17606	ハードマスク用膜を形成する方法および装置、ならびに半導体装置の製造方法	2020年 1月30日
特開 2020-17618	基板処理装置および基板処理方法	2020年 1月30日
特開 2020-17632	基板処理装置、および基板処理方法	2020年 1月30日
特開 2020-17633	基板処理装置、および基板処理方法	2020年 1月30日
特開 2020-17646	エッチング方法	2020年 1月30日
特開 2020-17685	基板処理装置及びプラズマシースの高さ制御方法	2020年 1月30日
特開 2020-17697	成膜装置及び成膜方法	2020年 1月30日

777 件中 706-720 件を表示

... 48

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2020-15157 2020-15158 2020-15951 2020-15980 2020-16255 2020-16592 2020-17105 2020-17569 2020-17606 2020-17618 2020-17632 2020-17633 2020-17646 2020-17685 2020-17697

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数