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東京エレクトロン株式会社

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  2021年 出願公開件数ランキング    第33位 878件 上昇2020年:第43位 773件)

  2021年 特許取得件数ランキング    第45位 515件 上昇2020年:第54位 436件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
再表 2020-116247 プラズマ処理装置及び下部ステージ 2021年10月28日
再表 2020-129714 基板処理装置、および基板処理方法 2021年10月28日
再表 2020-129730 基板処理装置及び基板処理方法 2021年10月28日
再表 2020-129757 基板処理装置 2021年10月28日
特開 2021-169649 金属窒化膜を成膜する方法、及び装置 2021年10月28日
特開 2021-169651 タングステン膜を形成する方法及び装置、並びにタングステン膜を形成する前の中間膜の形成を行う装置 2021年10月28日
特開 2021-170659 基板処理システム、および基板処理方法 2021年10月28日
再表 2020-90206 画像処理方法及び画像処理装置 2021年10月21日
再表 2020-121886 基板液処理装置及び基板液処理方法 2021年10月21日
再表 2020-129732 基板処理装置及び基板処理方法 2021年10月21日
再表 2020-129733 基板処理装置及び基板処理方法 2021年10月21日
再表 2020-129734 基板処理装置及び基板処理方法 2021年10月21日
特表 2021-528859 ナノワイヤデバイスを形成する方法 2021年10月21日
特開 2021-167696 減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法 2021年10月21日
特開 2021-168342 基板処理装置および基板処理方法 2021年10月21日

882 件中 136-150 件を表示

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2020-116247 2020-129714 2020-129730 2020-129757 2021-169649 2021-169651 2021-170659 2020-90206 2020-121886 2020-129732 2020-129733 2020-129734 2021-528859 2021-167696 2021-168342

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