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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2025年5月8日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2021-174678 | 補正方法及びプラズマ処理装置 | 2021年11月 1日 | |
| 特開 2021-174785 | 異物検査システム、異物検査方法、プログラム及び半導体製造装置 | 2021年11月 1日 | |
| 特開 2021-174804 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2021年11月 1日 | |
| 特開 2021-174805 | 基板処理システム及び基板処理方法 | 2021年11月 1日 | |
| 特開 2021-174806 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2021年11月 1日 | |
| 特開 2021-174833 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2021年11月 1日 | |
| 特開 2021-174861 | 二重配管の内部洗浄方法及び処理液供給装置 | 2021年11月 1日 | |
| 特開 2021-174872 | 配管システム及び処理装置 | 2021年11月 1日 | |
| 特開 2021-174902 | 処理方法及び基板処理装置 | 2021年11月 1日 | |
| 特開 2021-174908 | 基板処理装置及び基板搬送方法 | 2021年11月 1日 | |
| 特開 2021-174915 | 半導体装置の製造方法 | 2021年11月 1日 | |
| 特開 2021-174938 | エッチング方法及びエッチング装置 | 2021年11月 1日 | |
| 特開 2021-174960 | 選択成膜方法 | 2021年11月 1日 | |
| 特開 2021-174985 | 基板処理方法、プラズマ処理装置、及びエッチングガス組成物 | 2021年11月 1日 | |
| 再表 2020-116246 | シャワープレート、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2021年10月28日 |
882 件中 121-135 件を表示
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2021-174678 2021-174785 2021-174804 2021-174805 2021-174806 2021-174833 2021-174861 2021-174872 2021-174902 2021-174908 2021-174915 2021-174938 2021-174960 2021-174985 2020-116246
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