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東京エレクトロン株式会社

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　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第45位　515件（2020年：第54位　436件）

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2021-181979	校正方法及び校正システム	2021年11月25日
特開 2021-182590	基板液処理装置及び基板液処理方法	2021年11月25日
特開 2021-182611	基板処理装置及び基板処理装置の処理方法	2021年11月25日
特開 2021-182612	連接処理容器、基板処理システム及び基板処理方法。	2021年11月25日
特開 2021-182619	プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置	2021年11月25日
特開 2021-182620	プラズマ処理装置	2021年11月25日
特開 2021-182631	半導体製造装置の設置システム及び設置方法並びに記憶媒体	2021年11月25日
再表 2020-145051	プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	2021年11月18日
特表 2021-531661	半導体デバイス用の結晶学的に安定化された強誘電性ハフニウムジルコニウムベースの膜を形成する方法	2021年11月18日
特開 2021-179009	成膜方法及び成膜装置	2021年11月18日
特開 2021-180070	プラズマ処理装置及びマイクロ波制御方法	2021年11月18日
特開 2021-180082	プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	2021年11月18日
特開 2021-180180	制御方法、プラズマ処理装置、プロセッサ、及び非一時的コンピュータ可読記録媒体	2021年11月18日
特開 2021-180202	検査装置、接合システムおよび検査方法	2021年11月18日
特開 2021-180212	基板搬送機構及び基板搬送方法	2021年11月18日

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