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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2025-61305	基板処理装置	2025年 4月10日
特開 2025-61539	プラズマ処理装置及びインナーチャンバ	2025年 4月10日
特開 2025-56902	プラズマ源及びプラズマ処理装置	2025年 4月 9日
特開 2025-56912	プラズマ源及びプラズマ処理装置	2025年 4月 9日
特開 2025-56927	パターン形成方法及びパターン形成装置	2025年 4月 9日
特開 2025-58659	基板を処理する方法、及び基板を処理する装置	2025年 4月 9日
特開 2025-58669	半導体製造装置、及び半導体製造装置における基板搬送方法	2025年 4月 9日
特開 2025-54528	基板搬送装置、基板搬送方法及び記憶媒体	2025年 4月 8日
特開 2025-54888	基板処理装置	2025年 4月 8日
特開 2025-55372	プラズマ処理装置	2025年 4月 8日
特開 2025-56591	基板載置装置、基板処理装置および位置調整方法	2025年 4月 8日
特開 2025-52744	クリーニング方法及び成膜装置	2025年 4月 7日
特開 2025-52754	プラズマ処理装置	2025年 4月 7日
特開 2025-50351	オゾン濃縮器、基板処理装置及びオゾン供給方法	2025年 4月 4日
特開 2025-48783	ガス供給システム、ガス制御システム、プラズマ処理装置及びガス制御方法	2025年 4月 3日

267 件中 91-105 件を表示

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2025-61305 2025-61539 2025-56902 2025-56912 2025-56927 2025-58659 2025-58669 2025-54528 2025-54888 2025-55372 2025-56591 2025-52744 2025-52754 2025-50351 2025-48783

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