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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第39位 321件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第49位 164件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2021年5月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2021-511684 | プラズマ性能を制御するための方法及びシステム | 2021年 5月 6日 | |
| 特開 2021-70860 | 基板処理装置及び基板処理装置の立ち上げまたはメンテナンス方法 | 2021年 5月 6日 | |
| 特開 2021-71252 | 基板加熱装置 | 2021年 5月 6日 | |
| 特開 2021-72405 | ガス供給システム、基板処理装置及びガス供給システムの制御方法 | 2021年 5月 6日 | |
| 特開 2021-72406 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2021年 5月 6日 | |
| 特開 2021-72415 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2021年 5月 6日 | |
| 特開 2021-72422 | 情報処理装置、情報処理方法、情報処理プログラム及び半導体製造装置 | 2021年 5月 6日 | |
| 特開 2021-72424 | 基板収容ユニット及び基板搬送装置における真空搬送ユニットのメンテナンス方法 | 2021年 5月 6日 | |
| 特開 2021-72439 | バッチ形成機構および基板処理装置 | 2021年 5月 6日 | |
| 特表 2021-510628 | 流体分配及びカバレージ制御のためのシステム及び方法 | 2021年 4月30日 | |
| 特開 2021-67502 | 成膜装置、制御装置及び圧力計の調整方法 | 2021年 4月30日 | |
| 特開 2021-68682 | 制御方法及びプラズマ処理装置 | 2021年 4月30日 | |
| 特開 2021-68718 | 基板処理システム、基板処理装置及び基板処理方法 | 2021年 4月30日 | |
| 特開 2021-68739 | 基板処理装置 | 2021年 4月30日 | |
| 特開 2021-68752 | 基板処理システム及びエッジリングを交換する方法 | 2021年 4月30日 |
23 件中 1-15 件を表示
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2021-511684 2021-70860 2021-71252 2021-72405 2021-72406 2021-72415 2021-72422 2021-72424 2021-72439 2021-510628 2021-67502 2021-68682 2021-68718 2021-68739 2021-68752
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