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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第38位 449件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第50位 266件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2021年7月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2021-105199 | 成膜方法および成膜装置 | 2021年 7月26日 | |
| 特開 2021-106197 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2021年 7月26日 | |
| 特開 2021-106212 | エッチング方法、基板処理装置、及び基板処理システム | 2021年 7月26日 | |
| 特開 2021-106216 | 膜形成方法及びシステム | 2021年 7月26日 | |
| 特開 2021-106217 | 膜形成方法及び膜形成装置 | 2021年 7月26日 | |
| 特開 2021-106228 | エッチング方法及びエッチング装置 | 2021年 7月26日 | |
| 特開 2021-106279 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2021年 7月26日 |
7 件中 1-7 件を表示
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2021-105199 2021-106197 2021-106212 2021-106216 2021-106217 2021-106228 2021-106279
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