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東京エレクトロン株式会社
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第43位 624件
（
2019年：第58位 660件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第60位 343件
（
2019年：第58位 415件）
（ランキング更新日：2020年10月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2020-170600 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2020年10月15日 | |
| 特開 2020-170643 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2020年10月15日 | |
| 特開 2020-170749 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2020年10月15日 | |
| 特開 2020-170752 | 成膜方法及び成膜装置 | 2020年10月15日 | |
| 特開 2020-170757 | 成膜装置、成膜方法、および成膜システム | 2020年10月15日 | |
| 特開 2020-170801 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2020年10月15日 | |
| 特開 2020-170804 | プラズマ処理装置用の部材、及び当該部材を備えるプラズマ処理装置 | 2020年10月15日 | |
| 特開 2020-170805 | プラズマ処理装置用の部材、及び当該部材を備えるプラズマ処理装置 | 2020年10月15日 | |
| 特開 2020-170851 | 塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法 | 2020年10月15日 | |
| 特開 2020-170872 | 基板処理装置、基板処理方法およびプログラム | 2020年10月15日 | |
| 特開 2020-170873 | 基板処理装置、基板処理方法及び記録媒体 | 2020年10月15日 |
11 件中 1-11 件を表示
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2020-170600 2020-170643 2020-170749 2020-170752 2020-170757 2020-170801 2020-170804 2020-170805 2020-170851 2020-170872 2020-170873
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