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東京エレクトロン株式会社
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7728865 | クリーニング方法およびプラズマ処理方法 | 2025年 8月25日 | |
| 特許 7728939 | 載置台 | 2025年 8月25日 | |
| 特許 7728062 | 処理システム及び搬送方法 | 2025年 8月22日 | |
| 特許 7728103 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2025年 8月22日 | |
| 特許 7728227 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2025年 8月22日 | |
| 特許 7728376 | プラズマ処理装置および基板処理装置 | 2025年 8月22日 | |
| 特許 7728419 | 載置台及び基板処理装置 | 2025年 8月22日 | |
| 特許 7727163 | 超臨界流体計測のためのラマンセンサ | 2025年 8月21日 | |
| 特許 7727361 | 同軸透視検査システム | 2025年 8月21日 | |
| 特許 7727429 | 基板処理方法、基板処理装置、および記憶媒体 | 2025年 8月21日 | |
| 特許 7727528 | プラズマ処理装置 | 2025年 8月21日 | |
| 特許 7727686 | 基板処理方法、及び基板処理装置 | 2025年 8月21日 | |
| 特許 7727714 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2025年 8月21日 | |
| 特許 7727728 | チャンバ又は部品のクリーニング方法、基板処理方法及び基板処理装置 | 2025年 8月21日 | |
| 特許 7727760 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2025年 8月21日 |
35 件中 1-15 件を表示
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7728865 7728939 7728062 7728103 7728227 7728376 7728419 7727163 7727361 7727429 7727528 7727686 7727714 7727728 7727760
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