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東京エレクトロン株式会社

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  2022年 特許取得件数ランキング    第44位 412件 上昇2021年:第45位 515件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7119617 塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置 2022年 8月17日
特許 7119747 ガス処理装置及びガス処理方法 2022年 8月17日
特許 7118928 半導体ウエハの局所的歪みの特定に基づく全体的ウエハ歪みの改善 2022年 8月16日
特許 7117734 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 2022年 8月15日
特許 7118023 成膜方法および成膜装置 2022年 8月15日
特許 7118025 成膜方法 2022年 8月15日
特許 7118148 膜厚測定装置及び補正方法 2022年 8月15日
特許 7118170 仮想測定装置、仮想測定方法及び仮想測定プログラム 2022年 8月15日
特許 7118245 基板処理システム、および基板処理方法 2022年 8月15日
特許 7117057 相補型電界効果トランジスタ(CFET)デバイスにおいて複数のチャネル材料を組み込む方法 2022年 8月12日
特許 7117143 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 2022年 8月12日
特許 7117366 基板処理装置 2022年 8月12日
特許 7117392 基板処理装置及び基板処理装置の洗浄方法 2022年 8月12日

13 件中 1-13 件を表示

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7119617 7119747 7118928 7117734 7118023 7118025 7118148 7118170 7118245 7117057 7117143 7117366 7117392

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