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東京エレクトロン株式会社
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（
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■ 2024年 特許取得件数ランキング 第25位 753件
（2023年：第32位 762件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7595431 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2024年12月 6日 | |
| 特許 7595473 | 締結構造、プラズマ処理装置及び締結方法 | 2024年12月 6日 | |
| 特許 7595527 | 金属含有膜および金属含有膜の製造方法 | 2024年12月 6日 | |
| 特許 7595541 | プラズマ測定方法 | 2024年12月 6日 | |
| 特許 7595743 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2024年12月 6日 | |
| 特許 7594717 | 機械学習を用いた半導体製造データ取得機器における拡張された分解能 | 2024年12月 5日 | |
| 特許 7594883 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2024年12月 5日 | |
| 特許 7594901 | 情報処理方法、情報処理装置及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2024年12月 5日 | |
| 特許 7594903 | 現像装置及び現像方法 | 2024年12月 5日 | |
| 特許 7594914 | 基板処理の条件設定支援方法、基板処理システム、記憶媒体及び学習モデル | 2024年12月 5日 | |
| 特許 7594943 | エッチング方法、基板処理装置、及び基板処理システム | 2024年12月 5日 | |
| 特許 7595143 | 基板支持器、及び、プラズマ処理装置 | 2024年12月 5日 | |
| 特許 7592410 | 載置台及び基板処理装置 | 2024年12月 2日 | |
| 特許 7592500 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2024年12月 2日 | |
| 特許 7592511 | 成膜システム、成膜方法 | 2024年12月 2日 |
18 件中 1-15 件を表示
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7595431 7595473 7595527 7595541 7595743 7594717 7594883 7594901 7594903 7594914 7594943 7595143 7592410 7592500 7592511
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