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東京エレクトロン株式会社
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第25位 534件
（
2021年：第33位 878件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第44位 412件
（2021年：第45位 515件）
（ランキング更新日：2022年8月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7119617 | 塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置 | 2022年 8月17日 | |
| 特許 7119747 | ガス処理装置及びガス処理方法 | 2022年 8月17日 | |
| 特許 7118928 | 半導体ウエハの局所的歪みの特定に基づく全体的ウエハ歪みの改善 | 2022年 8月16日 | |
| 特許 7117734 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2022年 8月15日 | |
| 特許 7118023 | 成膜方法および成膜装置 | 2022年 8月15日 | |
| 特許 7118025 | 成膜方法 | 2022年 8月15日 | |
| 特許 7118148 | 膜厚測定装置及び補正方法 | 2022年 8月15日 | |
| 特許 7118170 | 仮想測定装置、仮想測定方法及び仮想測定プログラム | 2022年 8月15日 | |
| 特許 7118245 | 基板処理システム、および基板処理方法 | 2022年 8月15日 | |
| 特許 7117057 | 相補型電界効果トランジスタ（ＣＦＥＴ）デバイスにおいて複数のチャネル材料を組み込む方法 | 2022年 8月12日 | |
| 特許 7117143 | 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2022年 8月12日 | |
| 特許 7117366 | 基板処理装置 | 2022年 8月12日 | |
| 特許 7117392 | 基板処理装置及び基板処理装置の洗浄方法 | 2022年 8月12日 |
13 件中 1-13 件を表示
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7119617 7119747 7118928 7117734 7118023 7118025 7118148 7118170 7118245 7117057 7117143 7117366 7117392
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