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東京エレクトロン株式会社

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7588487 成膜方法 2024年11月22日
特許 7588516 プラズマ処理装置 2024年11月22日
特許 7588518 温度制御方法及び基板処理装置 2024年11月22日
特許 7588725 基板処理装置及び基板処理方法 2024年11月22日
特許 7587734 周期的自己制限的エッチングプロセス 2024年11月21日
特許 7587548 温度調整用流量制御ユニットおよび半導体製造装置 2024年11月20日
特許 7585593 積み重ねられたデバイスを有する半導体装置及びその製造方法 2024年11月19日
特許 7585812 基板載置台及び基板処理方法。 2024年11月19日
特許 7586598 排気リングアセンブリ及びプラズマ処理装置 2024年11月19日
特許 7586599 成膜装置及び成膜方法 2024年11月19日
特許 7586617 載置台 2024年11月19日
特許 7586618 基板搬送装置及び基板処理システム 2024年11月19日
特許 7586619 基板処理装置及び液体誘導部材 2024年11月19日
特許 7585281 パターン化された有機金属フォトレジスト及びパターニングの方法 2024年11月18日
特許 7585551 エッチング方法、プリコート方法及びエッチング装置 2024年11月18日

16 件中 1-15 件を表示

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7588487 7588516 7588518 7588725 7587734 7587548 7585593 7585812 7586598 7586599 7586617 7586618 7586619 7585281 7585551

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