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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2025-65937	プラズマ処理システム、プラズマ処理装置及び冷却制御方法	2025年 4月22日
特表 2025-512933	シリコンの横方向エッチング	2025年 4月22日
特開 2025-64037	静電チャック、基板支持器、及びプラズマ処理装置	2025年 4月17日
特開 2025-64206	基板処理装置及び基板処理方法	2025年 4月17日
特開 2025-65430	基板処理方法及び基板処理装置	2025年 4月17日
特表 2025-512235	選択的金属堆積のための選択的阻害	2025年 4月17日
特開 2025-63484	プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	2025年 4月16日
特表 2025-510618	挿入された電荷散逸層を用いる高アスペクト比カーボンエッチングのための技術	2025年 4月15日
特開 2025-62309	成膜方法及び半導体製造装置	2025年 4月14日
特表 2025-509218	半導体製造のためのエッチング方法	2025年 4月11日
特表 2025-509384	自己整合マルチパターニング方法	2025年 4月11日
特開 2025-59568	レジスト組成物、レジスト組成物の製造方法、基板処理装置、および基板処理方法	2025年 4月10日
特開 2025-59973	液処理装置及び監視方法	2025年 4月10日
特開 2025-61168	基板載置台の研磨方法及び基板載置台	2025年 4月10日
特開 2025-61301	基板処理装置	2025年 4月10日

267 件中 76-90 件を表示

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2025-65937 2025-512933 2025-64037 2025-64206 2025-65430 2025-512235 2025-63484 2025-510618 2025-62309 2025-509218 2025-509384 2025-59568 2025-59973 2025-61168 2025-61301

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