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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第274位 125件 (2023年:第399位 82件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第481位 55件 (2023年:第526位 52件)
(ランキング更新日:2025年1月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-105258 | ケイ素含有膜を調製するための前駆体及び方法 | 2024年 8月 6日 | |
特開 2024-105267 | エッチング後残留物を除去するための洗浄組成物 | 2024年 8月 6日 | |
特開 2024-102085 | 熱履歴が低減された三次元NANDメモリ | 2024年 7月30日 | |
特表 2024-527838 | ウエハ容器微環境内の汚染を低減する吸着剤および方法 | 2024年 7月26日 | |
特表 2024-526183 | ガス処理システムおよび方法 | 2024年 7月17日 | |
特表 2024-525429 | 遷移金属の研磨 | 2024年 7月12日 | |
特表 2024-525219 | 複数の層を有する焼結多孔質体 | 2024年 7月10日 | |
特表 2024-524063 | 扉ガスケットを有する基板容器 | 2024年 7月 5日 | |
特表 2024-524065 | ポリ(キノリン)膜 | 2024年 7月 5日 | |
特開 2024-86779 | 統合された静電放電軽減を備えた流体回路 | 2024年 6月28日 | |
特表 2024-523285 | 硬質基板の研削 | 2024年 6月28日 | |
特表 2024-523331 | 極端紫外線板上の結合層 | 2024年 6月28日 | |
特表 2024-522578 | ウエハ容器およびパージシステム | 2024年 6月21日 | |
特表 2024-522233 | 有機スズ化合物の調製のための方法 | 2024年 6月11日 | |
特表 2024-521323 | 直径が拡大されたパージポートを有する半導体基板搬送容器 | 2024年 5月31日 |
127 件中 76-90 件を表示
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2024-105258 2024-105267 2024-102085 2024-527838 2024-526183 2024-525429 2024-525219 2024-524063 2024-524065 2024-86779 2024-523285 2024-523331 2024-522578 2024-522233 2024-521323
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1月9日(木) -
1月10日(金) -
1月11日(土) -
1月11日(土) -
1月9日(木) -
1月14日(火) - 東京 港区
1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月18日(土) -
1月14日(火) - 東京 港区
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