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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6465579 | チャンバ内整合及びチャンバ間整合のための、複数パラメータを使用したエッチング速度モデル化及びその使用 | 2019年 2月 6日 | |
特許 6465633 | 半導体積層構造を形成するための方法および装置 | 2019年 2月 6日 | |
特許 6461482 | 半導体製造用の内部プラズマグリッド | 2019年 1月30日 | |
特許 6450087 | プラズマ露出面上にinsituで形成された保護層を備えるプラズマ処理チャンバのコンポーネント | 2019年 1月 9日 |
34 件中 31-34 件を表示
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6465579 6465633 6461482 6450087
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