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ラム リサーチ コーポレーション

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  2020年 出願公開件数ランキング    第499位 66件 上昇2019年:第1534位 16件)

  2020年 特許取得件数ランキング    第614位 36件 上昇2019年:第656位 34件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2020-518125 冷却ガス区画および対応する溝ならびに単極静電クランプ電極パターンを備える静電チャック 2020年 6月18日
特表 2020-517154 周波数調整を用いたデュアルレベルパルス化のためのRF整合回路網内の補助回路 2020年 6月11日
特表 2020-513065 モリブデンを含有する低抵抗膜 2020年 4月30日
特表 2020-512685 RFパワーエレクトロニクス用冷却システム 2020年 4月23日
特表 2020-512692 柔軟なウエハ温度制御を伴う静電チャック 2020年 4月23日
特表 2020-512701 ボトムおよびミドルエッジリング 2020年 4月23日
特表 2020-510959 複数の状態で反射電力を低減するようにチューニングするためのシステムおよび方法 2020年 4月 9日
特表 2020-510994 半導体デバイス製造における酸化スズ膜 2020年 4月 9日
特表 2020-510310 リニア真空搬送モジュールを有する省スペースプラットフォームアーキテクチャ 2020年 4月 2日
特表 2020-510314 酸化シリコンの存在下でのシリコン表面上の酸化シリコンまたは窒化シリコンの選択的成長 2020年 4月 2日
特表 2020-508579 原子層エッチングにおける方向性の制御 2020年 3月19日
特表 2020-506539 熱制御素子を用いるESC温度推定のための仮想測定方法 2020年 2月27日
特開 2020-31060 フェースプレート 2020年 2月27日
特表 2020-505722 誘導結合プラズマ処理チャンバ内における低バイアス電圧での基板近傍補充プラズマ密度生成 2020年 2月20日
特開 2020-25100 寄生プラズマを抑制してウエハ内での不均一性を低減するための基板処理システム 2020年 2月13日

66 件中 46-60 件を表示

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2020-518125 2020-517154 2020-513065 2020-512685 2020-512692 2020-512701 2020-510959 2020-510994 2020-510310 2020-510314 2020-508579 2020-506539 2020-31060 2020-505722 2020-25100

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