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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第499位 66件 (2019年:第1534位 16件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2020-518125 | 冷却ガス区画および対応する溝ならびに単極静電クランプ電極パターンを備える静電チャック | 2020年 6月18日 | |
特表 2020-517154 | 周波数調整を用いたデュアルレベルパルス化のためのRF整合回路網内の補助回路 | 2020年 6月11日 | |
特表 2020-513065 | モリブデンを含有する低抵抗膜 | 2020年 4月30日 | |
特表 2020-512685 | RFパワーエレクトロニクス用冷却システム | 2020年 4月23日 | |
特表 2020-512692 | 柔軟なウエハ温度制御を伴う静電チャック | 2020年 4月23日 | |
特表 2020-512701 | ボトムおよびミドルエッジリング | 2020年 4月23日 | |
特表 2020-510959 | 複数の状態で反射電力を低減するようにチューニングするためのシステムおよび方法 | 2020年 4月 9日 | |
特表 2020-510994 | 半導体デバイス製造における酸化スズ膜 | 2020年 4月 9日 | |
特表 2020-510310 | リニア真空搬送モジュールを有する省スペースプラットフォームアーキテクチャ | 2020年 4月 2日 | |
特表 2020-510314 | 酸化シリコンの存在下でのシリコン表面上の酸化シリコンまたは窒化シリコンの選択的成長 | 2020年 4月 2日 | |
特表 2020-508579 | 原子層エッチングにおける方向性の制御 | 2020年 3月19日 | |
特表 2020-506539 | 熱制御素子を用いるESC温度推定のための仮想測定方法 | 2020年 2月27日 | |
特開 2020-31060 | フェースプレート | 2020年 2月27日 | |
特表 2020-505722 | 誘導結合プラズマ処理チャンバ内における低バイアス電圧での基板近傍補充プラズマ密度生成 | 2020年 2月20日 | |
特開 2020-25100 | 寄生プラズマを抑制してウエハ内での不均一性を低減するための基板処理システム | 2020年 2月13日 |
66 件中 46-60 件を表示
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2020-518125 2020-517154 2020-513065 2020-512685 2020-512692 2020-512701 2020-510959 2020-510994 2020-510310 2020-510314 2020-508579 2020-506539 2020-31060 2020-505722 2020-25100
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11月22日(金) -
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11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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