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エフ イー アイ カンパニ
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2014年： 0件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第1215位 16件
（2014年： 0件）
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エフ イー アイ カンパニの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5832792 | 極低温でのビーム誘起堆積 | 2015年12月16日 | |
| 特許 5829842 | ＴＥＭの回折平面における使用のためのブロッキング部材 | 2015年12月 9日 | |
| 特許 5820020 | 電子線トモグラフィ法 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5788182 | 放射線検出器 | 2015年 9月30日 | |
| 特許 5764380 | ＳＥＭ画像化法 | 2015年 8月19日 | |
| 特許 5745757 | 二重装着光学系を備えた荷電粒子光学系 | 2015年 7月 8日 | |
| 特許 5739116 | 試料の検査方法 | 2015年 6月24日 | |
| 特許 5727564 | 荷電粒子レンズ系における収差を調査及び補正する方法 | 2015年 6月 3日 | |
| 特許 5719494 | 電子ビームを用いた表面下の画像化 | 2015年 5月20日 | |
| 特許 5702552 | デュアルビームシステムの制御方法 | 2015年 4月15日 | |
| 特許 5697902 | 荷電粒子ビーム処理されたＡｕ含有層 | 2015年 4月 8日 | |
| 特許 5690582 | 荷電粒子ビームシステムのためのプラズマ源 | 2015年 3月25日 | |
| 特許 5675692 | 構造部のミル処理断面の局部的変化を制御する方法および装置 | 2015年 2月25日 | |
| 特許 5670988 | 試料作製のための反復的周状切削 | 2015年 2月18日 | |
| 特許 5660860 | 粒子光学レンズの軸収差用の補正装置 | 2015年 1月28日 |
16 件中 1-15 件を表示
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5832792 5829842 5820020 5788182 5764380 5745757 5739116 5727564 5719494 5702552 5697902 5690582 5675692 5670988 5660860
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