特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エフ　イー　アイ　カンパニ

※ ログインすれば出願人(エフ　イー　アイ　カンパニ)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2022年出願公開件数ランキング　　　第830位　32件（2021年：第806位　36件）

　■　2022年特許取得件数ランキング　　　第1135位　19件（2021年：第1853位　9件）

（ランキング更新日：2025年4月14日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2023年 2024年 2025年

エフ　イー　アイ　カンパニの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7181832	Ａｌｖａｒｅｚ－Ｍａｃｏｖｓｋｉ減衰モデルを使用した断層像再構成におけるＸ線ビームハードニング補正	2022年12月 1日
特許 7178168	時間分解された荷電粒子顕微鏡法	2022年11月25日
特許 7166964	π線最適化を使用するコンピュータ断層撮影投影の幾何学的整合、被検体動き補正および強度正規化	2022年11月 8日
特許 7145776	走査透過荷電粒子顕微鏡におけるインテリジェントプレスキャン	2022年10月 3日
特許 7126439	ＴＥＭ薄片作成用のサンプル配向の方法	2022年 8月26日
特許 7117107	衝突イオン化源	2022年 8月12日
特許 7113613	欠陥分析	2022年 8月 5日
特許 7105647	透過型荷電粒子顕微鏡における回折パターン検出	2022年 7月25日
特許 7103926	改善されたＥＥＬＳ／ＥＦＴＥＭモジュールを有する透過型荷電粒子顕微鏡およびその使用方法	2022年 7月20日
特許 7080674	荷電粒子顕微鏡における収差測定	2022年 6月 6日
特許 7079135	荷電粒子顕微鏡のガンレンズ設計	2022年 6月 1日
特許 7068811	Ｘ線イメージングの統計的分析	2022年 5月17日
特許 7050412	新しい種類の電子ビーム誘起表面処理技法を使用したナノファブリケーション	2022年 4月 8日
特許 7048703	荷電粒子ビーム誘起エッチング	2022年 4月 5日
特許 7046746	Ｘ線生成のための薄片成形されたターゲット	2022年 4月 4日

19 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

7181832 7178168 7166964 7145776 7126439 7117107 7113613 7105647 7103926 7080674 7079135 7068811 7050412 7048703 7046746

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エフ　イー　アイ　カンパニの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数