特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エフ　イー　アイ　カンパニ

※ ログインすれば出願人(エフ　イー　アイ　カンパニ)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第1441位　17件（2015年：第1576位　15件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第732位　33件（2015年：第1215位　16件）

（ランキング更新日：2024年11月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

エフ　イー　アイ　カンパニの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2016-206182	荷電粒子機器の真空チャンバ内でサンプルを操作する方法	2016年12月 8日
特開 2016-207651	荷電粒子顕微鏡によるトモグラフィックイメージングを実行する方法	2016年12月 8日
特開 2016-161574	パルス処理	2016年 9月 5日
特開 2016-156092	粒子光学機器のマルチソースＧＩＳ	2016年 9月 1日
特開 2016-156823	荷電粒子顕微鏡用のサンプルの調製	2016年 9月 1日
特開 2016-130733	顕微鏡サンプルからサンプル表面層を改変する方法	2016年 7月21日
特開 2016-96140	荷電粒子顕微鏡における非接触温度測定	2016年 5月26日
特開 2016-96142	気圧補正を行う荷電粒子顕微鏡	2016年 5月26日
特開 2016-85966	荷電粒子顕微鏡における複合走査経路	2016年 5月19日
特開 2016-81929	特殊な絞り板を備える荷電粒子顕微鏡	2016年 5月16日
特開 2016-76489	ＴＥＭ内での特徴のない薄膜の位置合わせ	2016年 5月12日
特開 2016-57294	透過型荷電粒子顕微鏡内で分光を実行する方法	2016年 4月21日
特開 2016-45206	ＥＢＳＰパターンの取得方法	2016年 4月 4日
特開 2016-46529	改良された放射線センサ及び当該改良された放射線センサの荷電粒子顕微鏡内での応用	2016年 4月 4日
特開 2016-17966	走査型透過荷電粒子顕微鏡の校正方法	2016年 2月 1日

17 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2016-206182 2016-207651 2016-161574 2016-156092 2016-156823 2016-130733 2016-96140 2016-96142 2016-85966 2016-81929 2016-76489 2016-57294 2016-45206 2016-46529 2016-17966

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エフ　イー　アイ　カンパニの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数