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エフ イー アイ カンパニ
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第509位 3件
（
2024年：第668位 40件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第239位 8件
（2024年：第720位 34件）
（ランキング更新日：2025年1月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エフ イー アイ カンパニの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2025-10019 | 試料調製のための焦点合成適用 | 2025年 1月20日 | |
| 特開 2025-10020 | 顕微鏡収差補正 | 2025年 1月20日 | |
| 特開 2025-5429 | 磁気レンズ、それを含む荷電粒子顕微鏡システム、及び関連する方法 | 2025年 1月16日 |
3 件中 1-3 件を表示
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2025-10019 2025-10020 2025-5429
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