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エフ イー アイ カンパニ
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第383位 18件
（
2025年：第459位 63件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第1352位 3件
（
2025年：第619位 37件）
（ランキング更新日：2026年3月19日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エフ イー アイ カンパニの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2026-49697 | 磁気浸漬対物レンズを用いた高エネルギー損失での電子エネルギー損失分光法のための技術 | 2026年 3月18日 | |
| 特開 2026-47285 | カラム内粒子フィルタ | 2026年 3月13日 | |
| 特開 2026-42738 | 試料バイアスによるイオンビームの入射角の制御 | 2026年 3月11日 | |
| 特開 2026-40391 | 電子カウント及びエネルギー増強型の回折分析 | 2026年 3月 9日 | |
| 特開 2026-40419 | 電子後方散乱を使用した薄層厚さの推定 | 2026年 3月 9日 | |
| 特開 2026-36681 | 位置再現性を確保するためのグリッド搬送用ロードロック扉 | 2026年 3月 5日 | |
| 特開 2026-35565 | ユニバーサルクロックによって同期されたマルチモーダル信号取得 | 2026年 3月 4日 | |
| 特開 2026-34428 | 分割リング共振器イオンビーム源 | 2026年 2月27日 | |
| 特開 2026-34438 | 多入力分割リング共振器イオンビーム源 | 2026年 2月27日 | |
| 特表 2026-506454 | デコンボリューションされた質量を強調するゲル・レーンプロットを生成するためのシステム | 2026年 2月25日 | |
| 特開 2026-28247 | 荷電粒子レンズ | 2026年 2月19日 | |
| 特開 2026-22633 | ビーム偏向器及び関連するシステムを含む荷電粒子顕微鏡システムを動作させる方法 | 2026年 2月12日 | |
| 特開 2026-12150 | 時間分解荷電粒子顕微鏡法の方法 | 2026年 1月23日 | |
| 特開 2026-12151 | 適応型ドウェル時間顕微鏡 | 2026年 1月23日 | |
| 特表 2026-502504 | 分析物ベースの質量分析計およびアルゴリズムパラメータを使用する機器最適化のためのシステム | 2026年 1月23日 |
20 件中 1-15 件を表示
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2026-49697 2026-47285 2026-42738 2026-40391 2026-40419 2026-36681 2026-35565 2026-34428 2026-34438 2026-506454 2026-28247 2026-22633 2026-12150 2026-12151 2026-502504
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