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エフ イー アイ カンパニ

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 ■ 2026年 出願公開件数ランキング    第664位 33件 (下降2025年:第454位 66件)

 ■ 2026年 特許取得件数ランキング    第912位 18件 (下降2025年:第625位 37件)

(ランキング更新日:2026年10月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2026-533459 テンソルテンプレートマッチング 2026年10月 6日
特開 2026-150543 レーザ位相板を使用するときの、最適な画像コントラストを見つけるための方法 2026年 9月28日
特開 2026-148509 デュアルビームシステムのための適応照明 2026年 9月17日
特開 2026-134192 荷電粒子ビームデバイスの迅速なモード切り替え 2026年 8月20日
特開 2026-116738 レーザ位相板のためのオフプレーン撮像モード 2026年 7月10日
特表 2026-519792 サンプル調製のための方法及びシステム 2026年 6月18日
特開 2026-95379 電子顕微鏡撮像のためのシステムおよび方法 2026年 6月10日
特開 2026-94472 複合試料評価ワークフローのためのスマート試料容器 2026年 6月 9日
特開 2026-93353 サンプル緩和を可能にする分散撮像 2026年 6月 8日
特開 2026-89678 科学機器ワークフロー中断の大規模言語モデル解決 2026年 6月 1日
特開 2026-87506 多次元データセットを収集する方法及び関連するシステム 2026年 5月27日
特開 2026-82751 変形特性を決定する方法及び関連するシステム 2026年 5月19日
特開 2026-65627 長期取得のためのダーク補正 2026年 4月15日
特開 2026-59773 電子顕微鏡生成画像の取得及び符号化 2026年 4月 7日
特開 2026-52670 電子顕微鏡の磁場倍率制御 2026年 3月24日

35 件中 1-15 件を表示

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2026-533459 2026-150543 2026-148509 2026-134192 2026-116738 2026-519792 2026-95379 2026-94472 2026-93353 2026-89678 2026-87506 2026-82751 2026-65627 2026-59773 2026-52670

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