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エフ イー アイ カンパニ
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第652位 33件
（
2025年：第454位 66件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第904位 18件
（2025年：第625位 37件）
（ランキング更新日：2026年10月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エフ イー アイ カンパニの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2026-533459 | テンソルテンプレートマッチング | 2026年10月 6日 | |
| 特開 2026-150543 | レーザ位相板を使用するときの、最適な画像コントラストを見つけるための方法 | 2026年 9月28日 | |
| 特開 2026-148509 | デュアルビームシステムのための適応照明 | 2026年 9月17日 | |
| 特開 2026-134192 | 荷電粒子ビームデバイスの迅速なモード切り替え | 2026年 8月20日 | |
| 特開 2026-116738 | レーザ位相板のためのオフプレーン撮像モード | 2026年 7月10日 | |
| 特表 2026-519792 | サンプル調製のための方法及びシステム | 2026年 6月18日 | |
| 特開 2026-95379 | 電子顕微鏡撮像のためのシステムおよび方法 | 2026年 6月10日 | |
| 特開 2026-94472 | 複合試料評価ワークフローのためのスマート試料容器 | 2026年 6月 9日 | |
| 特開 2026-93353 | サンプル緩和を可能にする分散撮像 | 2026年 6月 8日 | |
| 特開 2026-89678 | 科学機器ワークフロー中断の大規模言語モデル解決 | 2026年 6月 1日 | |
| 特開 2026-87506 | 多次元データセットを収集する方法及び関連するシステム | 2026年 5月27日 | |
| 特開 2026-82751 | 変形特性を決定する方法及び関連するシステム | 2026年 5月19日 | |
| 特開 2026-65627 | 長期取得のためのダーク補正 | 2026年 4月15日 | |
| 特開 2026-59773 | 電子顕微鏡生成画像の取得及び符号化 | 2026年 4月 7日 | |
| 特開 2026-52670 | 電子顕微鏡の磁場倍率制御 | 2026年 3月24日 |
35 件中 1-15 件を表示
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2026-533459 2026-150543 2026-148509 2026-134192 2026-116738 2026-519792 2026-95379 2026-94472 2026-93353 2026-89678 2026-87506 2026-82751 2026-65627 2026-59773 2026-52670
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