特許ランキング - 出願人詳細情報 -
信越化学工業株式会社
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第94位 457件
（
2014年：第113位 412件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第59位 406件
（2014年：第66位 549件）
（ランキング更新日：2020年7月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 再表 2013-161500 | オルガノポリシロキサンエマルション組成物 | 2015年12月24日 | |
| 再表 2013-168291 | 熱伝導性シリコーングリース組成物 | 2015年12月24日 | |
| 特開 2015-232088 | ウエハ加工用仮接着材料、ウエハ加工体及びこれらを使用する薄型ウエハの製造方法 | 2015年12月24日 | |
| 特開 2015-232188 | 表面処理炭素繊維フィルム | 2015年12月24日 | |
| 特開 2015-232598 | 化学増幅型レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2015年12月24日 | |
| 特開 2015-232607 | 化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 | 2015年12月24日 | |
| 特開 2015-233104 | 熱伝導性シート | 2015年12月24日 | |
| 特開 2015-229604 | 多結晶シリコンロッドの製造方法、多結晶シリコンロッド、および、多結晶シリコン塊 | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-229611 | 熱分解窒化ホウ素被覆カーボン及びこれを用いたカーボンヒーター | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-229640 | ４級アンモニウム塩化合物、レジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法 | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-229651 | キクビスカシバの交信撹乱剤及び防除方法 | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-229681 | 硬化性組成物及び半導体装置 | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-229738 | ウレタン接着剤組成物 | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-229739 | プライマー組成物及び接着結合又はシーリング方法 | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-229749 | 光半導体装置用白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物、及び光半導体素子搭載用ケース | 2015年12月21日 |
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2013-161500 2013-168291 2015-232088 2015-232188 2015-232598 2015-232607 2015-233104 2015-229604 2015-229611 2015-229640 2015-229651 2015-229681 2015-229738 2015-229739 2015-229749
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