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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第101位 511件 (2016年:第98位 436件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6194867 | 抽出分離方法 | 2017年 9月13日 | |
特許 6195413 | 放射線硬化性シリコーン組成物 | 2017年 9月13日 | |
特許 6195414 | 片末端カルボキシル基含有パーフルオロポリエーテル化合物を含む組成物の製造方法 | 2017年 9月13日 | |
特許 6195417 | 保存安定性に優れる水溶性非イオン性セルロースエーテルの製造方法 | 2017年 9月13日 | |
特許 6195418 | 眼科デバイス製造用モノマー | 2017年 9月13日 | |
特許 6195419 | ラジカル重合性基含有シリコーン化合物及びその製造方法 | 2017年 9月13日 | |
特許 6195811 | 導電性ポリマー用高分子化合物の製造方法 | 2017年 9月13日 | |
特許 6195957 | 低置換度ヒドロキシプロピルセルロースを含む複合造粒物及び速放性製剤 | 2017年 9月13日 | |
特許 6196165 | パターン形成方法 | 2017年 9月13日 | |
特許 6196183 | 非水電解質二次電池用負極材及びその製造方法、並びに非水電解質二次電池用負極活物質層、非水電解質二次電池用負極、非水電解質二次電池 | 2017年 9月13日 | |
特許 6196190 | 多層膜形成方法及びパターン形成方法 | 2017年 9月13日 | |
特許 6196192 | 負極活物質、負極活物質の製造方法、並びに、リチウムイオン二次電池 | 2017年 9月13日 | |
特許 6196194 | 紫外線吸収剤、レジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法 | 2017年 9月13日 | |
特許 6191154 | SOI基板の製造方法 | 2017年 9月 6日 | |
特許 6191497 | 電着装置及び希土類永久磁石の製造方法 | 2017年 9月 6日 |
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6194867 6195413 6195414 6195417 6195418 6195419 6195811 6195957 6196165 6196183 6196190 6196192 6196194 6191154 6191497
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11月26日(火) -
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11月26日(火) -
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11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
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11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
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12月5日(木) - 東京 港区
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12月5日(木) -
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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