特許ランキング - 出願人詳細情報 -

信越化学工業株式会社

※ ログインすれば出願人(信越化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2023年出願公開件数ランキング　　　第79位　394件（2022年：第100位　332件）

　■　2023年特許取得件数ランキング　　　第71位　433件（2022年：第71位　431件）

（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2024年 2025年

信越化学工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7367824	希土類酸化物粒子	2023年10月24日
特許 7367864	コーティング剤組成物、該組成物を含む表面処理剤、及び該表面処理剤で表面処理された物品	2023年10月24日
特許 7368217	ポリオルガノシロキサンのカチオン系エマルション組成物及びその製造方法	2023年10月24日
特許 7368322	レジスト下層膜材料、パターン形成方法、及びレジスト下層膜形成方法	2023年10月24日
特許 7368324	ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法	2023年10月24日
特許 7368336	紫外線発光素子用金属貼り合わせ基板の製造方法、及び紫外線発光素子の製造方法	2023年10月24日
特許 7368342	ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法	2023年10月24日
特許 7368577	負極及びその製造方法	2023年10月24日
特許 7365110	ヨードニウム塩、レジスト組成物、及びパターン形成方法	2023年10月19日
特許 7363687	化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法	2023年10月18日
特許 7363694	レジスト材料及びパターン形成方法	2023年10月18日
特許 7363742	オニウム塩化合物、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法	2023年10月18日
特許 7364031	剥離紙又は剥離フィルム製造用シリコーン組成物、及び剥離紙又は剥離フィルム	2023年10月18日
特許 7364040	剥離紙又は剥離フィルム用オルガノポリシロキサン組成物	2023年10月18日
特許 7364405	希土類磁石の製造方法	2023年10月18日

441 件中 61-75 件を表示

... 5

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

7367824 7367864 7368217 7368322 7368324 7368336 7368342 7368577 7365110 7363687 7363694 7363742 7364031 7364040 7364405

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。信越化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数