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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第79位 394件
(2022年:第100位 332件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第71位 433件
(2022年:第71位 431件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7367824 | 希土類酸化物粒子 | 2023年10月24日 | |
特許 7367864 | コーティング剤組成物、該組成物を含む表面処理剤、及び該表面処理剤で表面処理された物品 | 2023年10月24日 | |
特許 7368217 | ポリオルガノシロキサンのカチオン系エマルション組成物及びその製造方法 | 2023年10月24日 | |
特許 7368322 | レジスト下層膜材料、パターン形成方法、及びレジスト下層膜形成方法 | 2023年10月24日 | |
特許 7368324 | ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 | 2023年10月24日 | |
特許 7368336 | 紫外線発光素子用金属貼り合わせ基板の製造方法、及び紫外線発光素子の製造方法 | 2023年10月24日 | |
特許 7368342 | ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 | 2023年10月24日 | |
特許 7368577 | 負極及びその製造方法 | 2023年10月24日 | |
特許 7365110 | ヨードニウム塩、レジスト組成物、及びパターン形成方法 | 2023年10月19日 | |
特許 7363687 | 化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 | 2023年10月18日 | |
特許 7363694 | レジスト材料及びパターン形成方法 | 2023年10月18日 | |
特許 7363742 | オニウム塩化合物、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2023年10月18日 | |
特許 7364031 | 剥離紙又は剥離フィルム製造用シリコーン組成物、及び剥離紙又は剥離フィルム | 2023年10月18日 | |
特許 7364040 | 剥離紙又は剥離フィルム用オルガノポリシロキサン組成物 | 2023年10月18日 | |
特許 7364405 | 希土類磁石の製造方法 | 2023年10月18日 |
441 件中 61-75 件を表示
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7367824 7367864 7368217 7368322 7368324 7368336 7368342 7368577 7365110 7363687 7363694 7363742 7364031 7364040 7364405
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