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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第79位 394件
(2022年:第100位 332件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第71位 433件
(2022年:第71位 431件)
(ランキング更新日:2025年4月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7397205 | 製膜用霧化装置、製膜装置及び製膜方法 | 2023年12月12日 | |
特許 7394045 | 多孔質ガラス母材の製造装置、および製造方法 | 2023年12月 7日 | |
特許 7392514 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び物品 | 2023年12月 6日 | |
特許 7390962 | 硬化性有機ケイ素樹脂組成物 | 2023年12月 4日 | |
特許 7390964 | 有機膜形成用材料、半導体装置製造用基板、及び有機膜の形成方法 | 2023年12月 4日 | |
特許 7390995 | パワーモジュールの製造方法 | 2023年12月 4日 | |
特許 7388296 | ケイ素含有テトラカルボン酸二無水物、その製造方法およびポリイミド樹脂 | 2023年11月29日 | |
特許 7388346 | レジスト材料及びパターン形成方法 | 2023年11月29日 | |
特許 7388550 | 熱伝導性シリコーン組成物、その製造方法及び半導体装置 | 2023年11月29日 | |
特許 7388865 | 付加硬化型シリコーン組成物、その硬化物、及び半導体装置 | 2023年11月29日 | |
特許 7388936 | 非水電解質二次電池用負極活物質、非水電解質二次電池用負極材、及び、リチウムイオン二次電池 | 2023年11月29日 | |
特許 7389012 | ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物、パターン形成方法及びケイ素化合物 | 2023年11月29日 | |
特許 7387233 | ジブロック型共重合体、ジブロック型共重合体の製造方法及びジブロック型共重合体の使用 | 2023年11月28日 | |
特許 7387235 | 熱硬化性マレイミド樹脂組成物、並びにその樹脂組成物からなる未硬化樹脂フィルム及び硬化樹脂フィルム | 2023年11月28日 | |
特許 7387236 | 熱硬化性マレイミド樹脂組成物 | 2023年11月28日 |
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7397205 7394045 7392514 7390962 7390964 7390995 7388296 7388346 7388550 7388865 7388936 7389012 7387233 7387235 7387236
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4月18日(金) -
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4月18日(金) - 東京 千代田区
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4月22日(火) -
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4月23日(水) - 東京 千代田区
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4月24日(木) -
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