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信越化学工業株式会社

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  2024年 出願公開件数ランキング    第79位 375件 変わらず2023年:第79位 394件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第78位 380件 下降2023年:第71位 433件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7495862 電子材料保護用コーティング剤 2024年 6月 5日
特許 7495897 ポジ型感光性樹脂組成物、ポジ型感光性ドライフィルム、ポジ型感光性ドライフィルムの製造方法、パターン形成方法、硬化被膜形成方法、層間絶縁膜、表面保護膜、及び電子部品 2024年 6月 5日
特許 7494707 レジスト材料及びパターン形成方法 2024年 6月 4日
特許 7494716 レジスト材料及びパターン形成方法 2024年 6月 4日
特許 7494731 ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 2024年 6月 4日
特許 7494805 化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 2024年 6月 4日
特許 7494980 EUVL用マスクブランクス 2024年 6月 4日
特許 7495376 異方性希土類焼結磁石及びその製造方法 2024年 6月 4日
特許 7493307 パーフルオロポリエーテル化合物の分離精製方法 2024年 5月31日
特許 7492479 電子部品マスク用ポリビニルピロリドン含有組成物および電子部品マスク 2024年 5月29日
特許 7492484 導電性高分子組成物、基板、及び基板の製造方法 2024年 5月29日
特許 7492485 シリコーン粒子の製造方法 2024年 5月29日
特許 7492492 レジスト材料及びパターン形成方法 2024年 5月29日
特許 7492621 成膜装置 2024年 5月29日
特許 7491173 スルホニウム塩、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法 2024年 5月28日

392 件中 211-225 件を表示

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7495862 7495897 7494707 7494716 7494731 7494805 7494980 7495376 7493307 7492479 7492484 7492485 7492492 7492621 7491173

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