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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第63位 461件 (2023年:第72位 424件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第89位 341件 (2023年:第91位 347件)
(ランキング更新日:2025年2月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-44497 | 基板処理装置およびパーティクル除去方法 | 2024年 4月 2日 | |
特開 2024-44507 | 基板処理装置 | 2024年 4月 2日 | |
特開 2024-44508 | 基板処理装置 | 2024年 4月 2日 | |
特開 2024-44565 | 印刷装置および印刷方法 | 2024年 4月 2日 | |
特開 2024-44905 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 | 2024年 4月 2日 | |
特開 2024-44924 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 | 2024年 4月 2日 | |
特開 2024-44925 | 下面ブラシ、ブラシユニットおよび基板洗浄装置 | 2024年 4月 2日 | |
特開 2024-45130 | 搬送処理装置 | 2024年 4月 2日 | |
特開 2024-45749 | 基板処理装置、基板処理方法、学習用データの生成方法、学習方法、学習装置、学習済モデルの生成方法、及び学習済モデル | 2024年 4月 2日 | |
特開 2024-42874 | 露光方法および露光装置 | 2024年 3月29日 | |
特開 2024-43177 | 光学装置、露光装置および露光方法 | 2024年 3月29日 | |
特開 2024-43357 | 描画装置および描画方法 | 2024年 3月29日 | |
特開 2024-42242 | 基板処理装置、および、フィルタの気泡除去方法 | 2024年 3月28日 | |
特開 2024-42344 | GUI装置および基板処理システム | 2024年 3月28日 | |
特開 2024-42364 | ヘッド交換方法、インクジェット印刷装置、およびヘッド交換支援プログラム | 2024年 3月28日 |
463 件中 346-360 件を表示
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2024-44497 2024-44507 2024-44508 2024-44565 2024-44905 2024-44924 2024-44925 2024-45130 2024-45749 2024-42874 2024-43177 2024-43357 2024-42242 2024-42344 2024-42364
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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