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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第63位 461件 (2023年:第72位 424件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第89位 341件 (2023年:第91位 347件)
(ランキング更新日:2025年2月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-35712 | 二流体吐出装置、基板処理装置および二流体ノズル制御方法 | 2024年 3月14日 | |
特開 2024-33198 | 基板処理装置 | 2024年 3月13日 | |
特開 2024-33258 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2024年 3月13日 | |
特開 2024-33259 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2024年 3月13日 | |
特開 2024-33671 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2024年 3月13日 | |
特開 2024-34610 | 画像比較方法、画像比較装置、および画像比較プログラム | 2024年 3月13日 | |
特開 2024-34617 | ポンプ制御パラメーターの調整方法、コンピュータープログラム、記録媒体、吐出装置および塗布装置 | 2024年 3月13日 | |
特開 2024-34805 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2024年 3月13日 | |
特開 2024-34806 | 基板処理装置及びブラシの脱落検知方法 | 2024年 3月13日 | |
特開 2024-32060 | 露光装置および露光方法 | 2024年 3月12日 | |
特開 2024-32110 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2024年 3月12日 | |
特開 2024-32111 | 基板処理装置、基板処理方法および基板処理システム | 2024年 3月12日 | |
特開 2024-32456 | 描画装置およびオートフォーカス補正方法 | 2024年 3月12日 | |
特開 2024-29908 | 接続配管、灌流装置の準備方法、および灌流方法 | 2024年 3月 7日 | |
特開 2024-29982 | 基板処理装置 | 2024年 3月 7日 |
463 件中 376-390 件を表示
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2024-35712 2024-33198 2024-33258 2024-33259 2024-33671 2024-34610 2024-34617 2024-34805 2024-34806 2024-32060 2024-32110 2024-32111 2024-32456 2024-29908 2024-29982
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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