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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第475位 70件
（
2014年：第473位 74件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第385位 67件
（2014年：第336位 115件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2015-204450 | 電子ビーム描画装置、及び電子ビームの収束半角調整方法 | 2015年11月16日 | |
| 特開 2015-200645 | 撮像装置、検査装置および検査方法 | 2015年11月12日 | |
| 特開 2015-201576 | ショットデータ生成方法およびマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年11月12日 | |
| 特開 2015-195312 | 気相成長装置および気相成長方法 | 2015年11月 5日 | |
| 特開 2015-191960 | 成膜装置、成膜方法及びリフレクタユニット | 2015年11月 2日 | |
| 特開 2015-188014 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年10月29日 | |
| 特開 2015-185800 | 荷電粒子ビーム描画装置、情報処理装置、パターン検査装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年10月22日 | |
| 特開 2015-178048 | 偏向器用クリーニング装置及び偏向器のクリーニング方法 | 2015年10月 8日 | |
| 特開 2015-179735 | 荷電粒子ビームのドリフト補正方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2015年10月 8日 | |
| 特開 2015-167212 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2015年 9月24日 | |
| 特開 2015-158594 | マスクの製造方法、マスク基板、および荷電ビーム描画方法 | 2015年 9月 3日 | |
| 特開 2015-156418 | 気相成長方法 | 2015年 8月27日 | |
| 特開 2015-153763 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年 8月24日 | |
| 特開 2015-153873 | セトリング時間の取得方法 | 2015年 8月24日 | |
| 特開 2015-145811 | 照明装置及びパターン検査装置 | 2015年 8月13日 |
71 件中 16-30 件を表示
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2015-204450 2015-200645 2015-201576 2015-195312 2015-191960 2015-188014 2015-185800 2015-178048 2015-179735 2015-167212 2015-158594 2015-156418 2015-153763 2015-153873 2015-145811
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