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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第475位 70件 (2014年:第473位 74件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第385位 67件 (2014年:第336位 115件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5832173 | 気相成長装置および気相成長方法 | 2015年12月16日 | |
特許 5832345 | 検査装置および検査方法 | 2015年12月16日 | |
特許 5832867 | 荷電粒子ビーム描画装置、パターン検査装置及びレイアウト表示方法 | 2015年12月16日 | |
特許 5833401 | 荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年12月16日 | |
特許 5828610 | 荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置 | 2015年12月 9日 | |
特許 5826566 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年12月 2日 | |
特許 5820143 | 半導体製造装置、半導体製造方法及び半導体製造装置のクリーニング方法 | 2015年11月24日 | |
特許 5820729 | 光束分岐素子、およびマスク欠陥検査装置 | 2015年11月24日 | |
特許 5816739 | マルチビームのブランキングアパーチャアレイ装置、及びマルチビームのブランキングアパーチャアレイ装置の製造方法 | 2015年11月18日 | |
特許 5819140 | 荷電粒子ビーム描画装置及びDACアンプの評価方法 | 2015年11月18日 | |
特許 5819144 | 荷電粒子ビーム描画装置の評価方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2015年11月18日 | |
特許 5813379 | マスク製造用装置 | 2015年11月17日 | |
特許 5814804 | 半導体製造装置および半導体製造方法 | 2015年11月17日 | |
特許 5809483 | ショットデータの作成方法、荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年11月11日 | |
特許 5809912 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年11月11日 |
67 件中 1-15 件を表示
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5832173 5832345 5832867 5833401 5828610 5826566 5820143 5820729 5816739 5819140 5819144 5813379 5814804 5809483 5809912
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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