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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第629位 43件
（
2023年：第608位 49件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第431位 65件
（
2023年：第509位 54件）
（ランキング更新日：2026年10月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2024-180008 | ローラ保持器、ローラ保持器の連結体、クロスローラガイド及びステージ装置 | 2024年12月26日 | |
| 特開 2024-178052 | 電子ビーム描画方法、電子ビーム描画装置、及びプログラム | 2024年12月24日 | |
| 特開 2024-177060 | マルチ電子ビームの調整方法及びマルチ電子ビーム検査装置 | 2024年12月19日 | |
| 特開 2024-176833 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2024年12月19日 | |
| 特開 2024-176403 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2024年12月19日 | |
| 特開 2024-171036 | 描画データ検査方法、描画方法、描画装置、およびプログラム | 2024年12月11日 | |
| 特開 2024-171031 | 描画データ検査方法、描画方法、描画装置、およびプログラム | 2024年12月11日 | |
| 特開 2024-168579 | ブランキングアパーチャアレイ機構、及び描画装置 | 2024年12月 5日 | |
| 特開 2024-162872 | パターン検査方法及びパターン検査装置 | 2024年11月21日 | |
| 特開 2024-157150 | マーク位置計測装置、荷電粒子ビーム描画装置、及びマーク位置計測方法 | 2024年11月 7日 | |
| 特開 2024-157192 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置およびマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2024年11月 7日 | |
| 特開 2024-137016 | パターン検査方法及びパターン検査装置 | 2024年10月 4日 | |
| 特開 2024-132466 | 冷却板及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2024年10月 1日 | |
| 特開 2024-128847 | マルチ２次電子ビームの位置合わせ方法 | 2024年 9月24日 | |
| 特開 2024-121593 | パターン検査装置 | 2024年 9月 6日 |
45 件中 1-15 件を表示
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2024-180008 2024-178052 2024-177060 2024-176833 2024-176403 2024-171036 2024-171031 2024-168579 2024-162872 2024-157150 2024-157192 2024-137016 2024-132466 2024-128847 2024-121593
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