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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第609位 49件
(2022年:第572位 53件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第509位 54件
(2022年:第398位 74件)
(ランキング更新日:2025年3月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7400830 | マルチ荷電粒子ビーム調整方法、マルチ荷電粒子ビーム照射方法、及びマルチ荷電粒子ビーム照射装置 | 2023年12月19日 | |
特許 7397238 | 電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法 | 2023年12月12日 | |
特許 7392805 | 描画データ生成プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画プログラム及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2023年12月 6日 | |
特許 7388237 | マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2023年11月29日 | |
特許 7386619 | 電子ビーム検査方法及び電子ビーム検査装置 | 2023年11月27日 | |
特許 7386365 | SiCエピタキシャル成長装置およびSiCエピタキシャル成長装置の副生成物除去方法 | 2023年11月24日 | |
特許 7385493 | マルチ荷電粒子ビーム位置合わせ方法及びマルチ荷電粒子ビーム検査装置 | 2023年11月22日 | |
特許 7367695 | 荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法及びプログラム | 2023年10月24日 | |
特許 7365761 | 気相成長装置 | 2023年10月20日 | |
特許 7359050 | マルチビーム用のブランキング装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2023年10月11日 | |
特許 7356329 | 電子ビーム照射装置、描画装置及び検査装置 | 2023年10月 4日 | |
特許 7356605 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2023年10月 4日 | |
特許 7352446 | ステージ機構 | 2023年 9月28日 | |
特許 7352447 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2023年 9月28日 | |
特許 7344706 | 電子ビーム検査装置 | 2023年 9月14日 |
55 件中 1-15 件を表示
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7400830 7397238 7392805 7388237 7386619 7386365 7385493 7367695 7365761 7359050 7356329 7356605 7352446 7352447 7344706
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