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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第200位 217件
（
2015年：第263位 162件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第268位 121件
（
2015年：第236位 126件）
（ランキング更新日：2025年1月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2016-522930 | マルチレベルマスク回路製造及び多層回路 | 2016年 8月 4日 | |
| 特開 2016-139795 | 空間的に分離された原子層堆積チャンバのための改良型注入器 | 2016年 8月 4日 | |
| 特開 2016-139813 | 高温測定のための加熱源反射フィルタを含む装置 | 2016年 8月 4日 | |
| 特表 2016-522532 | 薄膜封入−ＯＬＥＤに適用する薄型超高度バリア層 | 2016年 7月28日 | |
| 特開 2016-136522 | プラズマ処理チャンバのための高周波リターンデバイス及びプラズマ処理システム | 2016年 7月28日 | |
| 特表 2016-521316 | 能動的に位置合わせされるファインメタルマスク | 2016年 7月21日 | |
| 特表 2016-520417 | 熱可塑性物質をマイクロ波エネルギーで硬化させる方法 | 2016年 7月14日 | |
| 特表 2016-520707 | フッ素プラズマに対する保護に適した保護コーティングを有するチャンバ構成要素 | 2016年 7月14日 | |
| 特表 2016-520990 | 加熱ランプアセンブリ | 2016年 7月14日 | |
| 特開 2016-129261 | カセットを位置合わせするための方法と装置 | 2016年 7月14日 | |
| 特表 2016-519778 | 極端紫外線リソグラフィマスクブランク製造システムとそのための操作方法 | 2016年 7月 7日 | |
| 特表 2016-519780 | 超平滑層紫外線リソグラフィミラー及びブランク、及びそのための製造及びリソグラフィシステム | 2016年 7月 7日 | |
| 特表 2016-519844 | 方位角方向及び半径方向分布制御を備えたマルチゾーンガス注入アセンブリ | 2016年 7月 7日 | |
| 特表 2016-519845 | 高対称四重ガス注入によるプラズマリアクタ | 2016年 7月 7日 | |
| 特表 2016-519852 | 多重ディスク化学機械研磨パッドコンディショナー及び方法 | 2016年 7月 7日 |
217 件中 106-120 件を表示
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2016-522930 2016-139795 2016-139813 2016-522532 2016-136522 2016-521316 2016-520417 2016-520707 2016-520990 2016-129261 2016-519778 2016-519780 2016-519844 2016-519845 2016-519852
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