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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2016年 出願公開件数ランキング    第200位 217件 上昇2015年:第263位 162件)

  2016年 特許取得件数ランキング    第268位 121件 下降2015年:第236位 126件)

(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2016-528380 プラズマ耐食性希土類酸化物系薄膜コーティング 2016年 9月15日
特表 2016-528389 カプセル化されたマグネトロン 2016年 9月15日
特表 2016-528655 ツールプロセスデータの多変量解析を提供するためのK近傍法に基づく方法及びシステム 2016年 9月15日
特表 2016-528667 プラズマチャンバ内での高速で再現性のあるプラズマの点火及び同調のための方法 2016年 9月15日
特表 2016-528723 ダイの破壊強度を高め、側壁を平滑化するためのレーザスクライビング及びプラズマエッチング 2016年 9月15日
特表 2016-528734 エピタキシャル成長に先立って基板表面を予洗浄するための方法及び装置 2016年 9月15日
特表 2016-528739 不純物が積層したエピタキシーのための装置 2016年 9月15日
特開 2016-167610 エピタキシャル堆積プロセス及び装置 2016年 9月15日
特表 2016-527397 インライン堆積制御装置及びインライン堆積制御方法 2016年 9月 8日
特表 2016-527398 薄膜処理アプリケーションのための洗浄方法及びそこで使用される装置 2016年 9月 8日
特表 2016-527732 ファクトリインターフェースの環境制御を伴う基板処理のシステム、装置、及び方法 2016年 9月 8日
特開 2016-164994 多レベルシャワーヘッド設計 2016年 9月 8日
特表 2016-526784 湿式ウエハバックコンタクトを使用したシリコンビアを通した銅メッキのための方法 2016年 9月 5日
特表 2016-526279 空間的に分散されたガス流路を有する流量制御ライナー 2016年 9月 1日
特表 2016-526282 エキシマレーザアニーリング後にポリシリコン品質を向上させる多層アモルファスシリコン構造 2016年 9月 1日

217 件中 76-90 件を表示

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2016-528380 2016-528389 2016-528655 2016-528667 2016-528723 2016-528734 2016-528739 2016-167610 2016-527397 2016-527398 2016-527732 2016-164994 2016-526784 2016-526279 2016-526282

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