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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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　■　2019年出願公開件数ランキング　　　第141位　330件（2018年：第172位　256件）

　■　2019年特許取得件数ランキング　　　第156位　176件（2018年：第188位　158件）

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2019-526820	区分的位置合わせモデリング方法	2019年 9月19日
特表 2019-526931	調整可能なシャワーヘッド及び調整可能なライナを有する処理チャンバ	2019年 9月19日
特表 2019-526933	カセットへのロボットアクセスを備えた化学機械研磨ツール	2019年 9月19日
特表 2019-525857	グリーンシートセラミック上へのメタライゼーション材料の、サブミクロン均一性を有する高精度スクリーン印刷	2019年 9月12日
特表 2019-525996	低損傷及び高スループットのプラズマ処理のための大面積ＶＨＦ　ＰＥＣＶＤチャンバ	2019年 9月12日
特表 2019-526169	材料改質とＲＦパルスを用いた選択的エッチング	2019年 9月12日
特表 2019-525240	多層吸収体を有する極紫外線マスクブランク、及びその製造方法	2019年 9月 5日
特表 2019-525468	マイクロメカニカル及び半導体処理におけるワークピースキャリアの積層された上部プレート	2019年 9月 5日
特表 2019-525489	処理チャンバへのガス流れを制御するための方法及び装置	2019年 9月 5日
特表 2019-525492	共有真空システムを有するマルチチャンバ処理システム	2019年 9月 5日
特表 2019-523818	真空堆積処理で使用される基板を保持するための装置、基板上に層を堆積するためのシステム、及び基板を保持するための方法	2019年 8月29日
特表 2019-523969	エネルギー効率の良い通信及びディスプレイデバイス	2019年 8月29日
特表 2019-523989	静電チャック及び静電チャックのための製造方法	2019年 8月29日
特表 2019-523993	プラズマ処理中に基板における電圧波形を制御するためのシステム及び方法	2019年 8月29日
特表 2019-523995	高出力プラズマエッチングプロセスのためのガス分配プレートアセンブリ	2019年 8月29日

330 件中 106-120 件を表示

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2019-526820 2019-526931 2019-526933 2019-525857 2019-525996 2019-526169 2019-525240 2019-525468 2019-525489 2019-525492 2019-523818 2019-523969 2019-523989 2019-523993 2019-523995

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