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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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　■　2019年出願公開件数ランキング　　　第141位　330件（2018年：第172位　256件）

　■　2019年特許取得件数ランキング　　　第156位　176件（2018年：第188位　158件）

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2019-530985	磁気トンネル接合を堆積するための超平滑底部電極面の形成方法	2019年10月24日
特開 2019-183278	ゾーン制御された、希土類酸化物ＡＬＤ及びＣＶＤコーティング	2019年10月24日
特表 2019-529136	トレンチの深さの電磁誘導モニタリングに基づく過研磨	2019年10月17日
特表 2019-529695	高密度、低応力のアモルファスカーボン膜、ならびにその堆積のための方法および装置	2019年10月17日
特表 2019-529706	１つの酸化物金属堆積チャンバ	2019年10月17日
特表 2019-530201	マイクロデバイスのマスクレス並列ピックアンドプレース移載	2019年10月17日
特表 2019-530208	個別に制御可能なヒータ素子のアレイを有する基板キャリア	2019年10月17日
特表 2019-530209	ヒータ素子アレイを使用する、基板キャリアの温度測定	2019年10月17日
特表 2019-530211	静電チャック、及びその製造方法	2019年10月17日
特表 2019-530236	フィルタリングのための補償を用いた終点検出	2019年10月17日
特表 2019-530242	自己整合ビアの形成方法	2019年10月17日
特開 2019-179921	低Ｋ及びその他の誘電体膜をエッチングするための処理チャンバ	2019年10月17日
特表 2019-528186	化学機械研磨のための研磨パッド厚さのモニタリング	2019年10月10日
特表 2019-528187	環状プラテン又は研磨パッドを有する研磨システム	2019年10月10日
特表 2019-528369	パルスＤＣ電源	2019年10月10日

330 件中 76-90 件を表示

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2019-530985 2019-183278 2019-529136 2019-529695 2019-529706 2019-530201 2019-530208 2019-530209 2019-530211 2019-530236 2019-530242 2019-179921 2019-528186 2019-528187 2019-528369

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