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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2020年 出願公開件数ランキング    第138位 311件 上昇2019年:第141位 330件)

  2020年 特許取得件数ランキング    第136位 210件 上昇2019年:第156位 176件)

(ランキング更新日:2024年11月26日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2020-517818 蒸発した材料を基板の上に堆積するための蒸発源、堆積装置、蒸発した材料の蒸気圧を測定するための方法、及び蒸発した材料の蒸発速度を決定するための方法 2020年 6月18日
特表 2020-518121 真空チャンバ内でキャリアをアライメントするための装置、真空システム、ならびに真空チャンバ内でキャリアをアライメントする方法 2020年 6月18日
特表 2020-518122 真空チャンバ内でキャリアを操作するための装置、真空堆積システム、および真空チャンバ内でキャリアを操作する方法 2020年 6月18日
特表 2020-518123 真空チャンバ内でキャリアを位置合わせするための装置および真空システム、ならびにキャリアを位置合わせする方法 2020年 6月18日
特表 2020-518128 改善された電極アセンブリ 2020年 6月18日
特表 2020-518131 モニタリング用のニューラルネットワークを用いた研磨装置 2020年 6月18日
特表 2020-518134 高アスペクト比構造における間隙充填方法 2020年 6月18日
特表 2020-518136 3D NANDに適用するための低誘電率酸化物および低抵抗のOPスタック 2020年 6月18日
特開 2020-95274 堆積用監視システム及びその操作方法 2020年 6月18日
特表 2020-516770 基板端部上のプラズマ密度制御 2020年 6月11日
特表 2020-517060 モジュラーマイクロ波源を使用した対称及び不規則なプラズマ 2020年 6月11日
特表 2020-517095 ウェハの腐食、及び、時間に依存する化学的影響 2020年 6月11日
特表 2020-517097 アモルファスシリコン間隙充填を改善するための表面改質 2020年 6月11日
特表 2020-517098 酸化ケイ素の核形成/接着の向上により膜粗さを改善するための処理アプローチ 2020年 6月11日
特表 2020-517100 反応性アニールを使用する間隙充填 2020年 6月11日

312 件中 166-180 件を表示

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2020-517818 2020-518121 2020-518122 2020-518123 2020-518128 2020-518131 2020-518134 2020-518136 2020-95274 2020-516770 2020-517060 2020-517095 2020-517097 2020-517098 2020-517100

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