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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2020-522895	半導体処理チャンバ内でのガス供給のための装置および方法	2020年 7月30日
特開 2020-115541	ウェハエッジプラズマシース調整機能を備える半導体プラズマ処理装置	2020年 7月30日
特開 2020-115558	基板処理のための混合プラットフォームの装置、システム、及び方法	2020年 7月30日
特表 2020-521876	高圧処理によるタングステンの脱フッ素化	2020年 7月27日
特表 2020-522122	ゲッターを備えたアニールチャンバ	2020年 7月27日
特表 2020-522130	３Ｄ−ＮＡＮＤデバイスでのワードライン分離のための方法	2020年 7月27日
特表 2020-522131	無水エッチングの方法	2020年 7月27日
特表 2020-522132	遠隔プラズマ酸化チャンバ	2020年 7月27日
特表 2020-522133	窒化ケイ素膜の高圧処理	2020年 7月27日
特表 2020-522136	ウエハダイシングプロセスにおけるパーティクル汚染の軽減	2020年 7月27日
特表 2020-522137	ハイブリッドレーザスクライビングおよびプラズマエッチングウエハ個片化プロセスのための光吸収マスク	2020年 7月27日
特表 2020-522138	金属シリサイドの選択的堆積	2020年 7月27日
特表 2020-521039	蒸発した材料を堆積させるための蒸発源、真空堆積システム、及び蒸発した材料を堆積させるための方法	2020年 7月16日
特表 2020-521269	電極フィラメントを有するプラズマ反応器	2020年 7月16日
特表 2020-521270	プラズマ反応器の電極に電力を印加すること	2020年 7月16日

312 件中 121-135 件を表示

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2020-522895 2020-115541 2020-115558 2020-521876 2020-522122 2020-522130 2020-522131 2020-522132 2020-522133 2020-522136 2020-522137 2020-522138 2020-521039 2020-521269 2020-521270

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