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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2020-514127	回転ポリゴン及び第２の反射部材を有するエネルギー供給システムを備えた付加製造	2020年 5月21日
特表 2020-514524	基板処理方法、真空処装置、及び真空処理システム	2020年 5月21日
特表 2020-514529	ＣＶＤによる共形密封膜堆積	2020年 5月21日
特表 2020-514554	プラズマリアクタ及びプラズマリアクタでのダイヤモンドライクカーボンの堆積又は処理	2020年 5月21日
特表 2020-515001	可変周波数発生器を用いるスマート高周波パルス調整	2020年 5月21日
特表 2020-515026	真空処理システムおよび真空処理システムを動作させる方法	2020年 5月21日
特表 2020-515045	フォトレジスト層におけるフィールド誘導型酸プロファイル制御のための装置	2020年 5月21日
特表 2020-515082	誘電体膜の選択的堆積のための方法及び装置	2020年 5月21日
特開 2020-77866	干渉終点検出システムにおける内部反射の排除	2020年 5月21日
特表 2020-513692	半導体基板処理システムのための先進インシトゥ粒子検出システム	2020年 5月14日
特表 2020-513697	静電チャックのための新しい修理方法	2020年 5月14日
特開 2020-73725	高度なデバイスのウェハ上の粒子性能に対して化学的適合性のあるコーティング材料	2020年 5月14日
特開 2020-74023	感光性ポリイミドをマイクロ波処理する方法	2020年 5月14日
特開 2020-74408	付加製造プロセスにより製作される研磨パッド	2020年 5月14日
特開 2020-74423	高温処理用静電チャックアセンブリ	2020年 5月14日

312 件中 196-210 件を表示

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2020-514127 2020-514524 2020-514529 2020-514554 2020-515001 2020-515026 2020-515045 2020-515082 2020-77866 2020-513692 2020-513697 2020-73725 2020-74023 2020-74408 2020-74423

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