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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第138位 311件
（
2019年：第141位 330件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第136位 210件
（2019年：第156位 176件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2020-534702 | 基板のフィーチャをコバルトで充填する方法および装置 | 2020年11月26日 | |
| 特表 2020-533487 | 加熱シャワーヘッドアセンブリを有する基板処理チャンバ | 2020年11月19日 | |
| 特表 2020-533781 | 強磁性素子までの距離を測定するための距離センサ、磁気浮揚システム、及び強磁性素子までの距離を測定するための方法 | 2020年11月19日 | |
| 特表 2020-533803 | 保護バリア層を使用して半導体構造を製造する装置および方法 | 2020年11月19日 | |
| 特表 2020-533806 | 基板裏側の損傷の低減のための基板支持体 | 2020年11月19日 | |
| 特表 2020-533808 | 化学エッチングによる選択的堆積の欠陥除去 | 2020年11月19日 | |
| 特開 2020-186815 | 物体を保持し、位置付け、かつ／又は動かすための装置、及び、物体を保持し、位置付け、かつ／又は動かすための装置を動作させる方法 | 2020年11月19日 | |
| 特開 2020-188010 | ホール効果が促進された容量結合プラズマ源、軽減システム、および真空処理システム | 2020年11月19日 | |
| 特表 2020-532652 | 高分解能ＦＭＭのためのＦＭＭ処理 | 2020年11月12日 | |
| 特表 2020-532868 | 亜酸化物からの自己整合構造 | 2020年11月12日 | |
| 特表 2020-532870 | ３Ｄメモリ構造における高アスペクト比孔形成へのボトムアップアプローチ | 2020年11月12日 | |
| 特表 2020-532871 | 共形ドーパント膜堆積を使用した、３Ｄ構造体の共形ハロゲンドーピング | 2020年11月12日 | |
| 特表 2020-532884 | 給電型エッジリングを用いた処理 | 2020年11月12日 | |
| 特開 2020-184639 | ウエハガス放出のためのプラズマエンハンストアニールチャンバ | 2020年11月12日 | |
| 特表 2020-531900 | 露光システムアライメントおよび較正方法 | 2020年11月 5日 |
312 件中 31-45 件を表示
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2020-534702 2020-533487 2020-533781 2020-533803 2020-533806 2020-533808 2020-186815 2020-188010 2020-532652 2020-532868 2020-532870 2020-532871 2020-532884 2020-184639 2020-531900
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