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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第138位 311件
(2019年:第141位 330件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第136位 210件
(2019年:第156位 176件)
(ランキング更新日:2025年6月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2020-532048 | オレフィンセパレータを含まないLIイオンバッテリ | 2020年11月 5日 | |
特表 2020-532087 | 誘導結合プラズマソースの改善 | 2020年11月 5日 | |
特表 2020-532102 | モニタリングデバイスを有する処理ツール | 2020年11月 5日 | |
特表 2020-532106 | 高圧高温下のアニールチャンバ | 2020年11月 5日 | |
特表 2020-532114 | 一体型エピタキシシステム高温汚染物質除去 | 2020年11月 5日 | |
特表 2020-532130 | エピタキシャル堆積プロセスのための注入アセンブリ | 2020年11月 5日 | |
特表 2020-532140 | 高選択性酸化物除去および高温汚染物質除去と統合されたエピタキシシステム | 2020年11月 5日 | |
特表 2020-532142 | 一体化されたエピタキシと予洗浄システム | 2020年11月 5日 | |
特表 2020-532145 | 分割スリットライナードア | 2020年11月 5日 | |
特開 2020-179398 | 重原子を含有する化合物のプラズマ軽減 | 2020年11月 5日 | |
特表 2020-530875 | 真空チャンバ内でキャリア又は構成要素を保持するための保持デバイス、真空チャンバ内のキャリア又は構成要素を保持するための保持デバイスの利用、真空チャンバ内でキャリアを操作するための装置、及び真空堆積システム | 2020年10月29日 | |
特表 2020-530943 | 静電基板支持体幾何形状の研磨 | 2020年10月29日 | |
特表 2020-530527 | 熱化学気相堆積(CVD)における均一性を改善するための装置及び方法 | 2020年10月22日 | |
特表 2020-530528 | 付加製造のための温度制御 | 2020年10月22日 | |
特表 2020-530654 | 処理チャンバ用のマルチプレートフェースプレート | 2020年10月22日 |
312 件中 46-60 件を表示
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2020-532048 2020-532087 2020-532102 2020-532106 2020-532114 2020-532130 2020-532140 2020-532142 2020-532145 2020-179398 2020-530875 2020-530943 2020-530527 2020-530528 2020-530654
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6月16日(月) - 東京 大田
6月17日(火) -
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6月17日(火) -
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6月18日(水) -
6月18日(水) -
6月18日(水) -
6月18日(水) -
6月19日(木) - 大阪 大阪市
6月19日(木) -
6月20日(金) - 東京 千代田区
6月20日(金) - 東京 千代田区
6月20日(金) -
6月20日(金) - 愛知 名古屋市
6月16日(月) - 東京 大田
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