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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2020年 出願公開件数ランキング    第138位 311件 上昇2019年:第141位 330件)

  2020年 特許取得件数ランキング    第136位 210件 上昇2019年:第156位 176件)

(ランキング更新日:2025年6月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2020-532048 オレフィンセパレータを含まないLIイオンバッテリ 2020年11月 5日
特表 2020-532087 誘導結合プラズマソースの改善 2020年11月 5日
特表 2020-532102 モニタリングデバイスを有する処理ツール 2020年11月 5日
特表 2020-532106 高圧高温下のアニールチャンバ 2020年11月 5日
特表 2020-532114 一体型エピタキシシステム高温汚染物質除去 2020年11月 5日
特表 2020-532130 エピタキシャル堆積プロセスのための注入アセンブリ 2020年11月 5日
特表 2020-532140 高選択性酸化物除去および高温汚染物質除去と統合されたエピタキシシステム 2020年11月 5日
特表 2020-532142 一体化されたエピタキシと予洗浄システム 2020年11月 5日
特表 2020-532145 分割スリットライナードア 2020年11月 5日
特開 2020-179398 重原子を含有する化合物のプラズマ軽減 2020年11月 5日
特表 2020-530875 真空チャンバ内でキャリア又は構成要素を保持するための保持デバイス、真空チャンバ内のキャリア又は構成要素を保持するための保持デバイスの利用、真空チャンバ内でキャリアを操作するための装置、及び真空堆積システム 2020年10月29日
特表 2020-530943 静電基板支持体幾何形状の研磨 2020年10月29日
特表 2020-530527 熱化学気相堆積(CVD)における均一性を改善するための装置及び方法 2020年10月22日
特表 2020-530528 付加製造のための温度制御 2020年10月22日
特表 2020-530654 処理チャンバ用のマルチプレートフェースプレート 2020年10月22日

312 件中 46-60 件を表示

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2020-532048 2020-532087 2020-532102 2020-532106 2020-532114 2020-532130 2020-532140 2020-532142 2020-532145 2020-179398 2020-530875 2020-530943 2020-530527 2020-530528 2020-530654

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