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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2020-526663	窒素含有量が高い窒化ケイ素膜	2020年 8月31日
特表 2020-526669	タングステン核形成層を堆積させるための方法及び装置	2020年 8月31日
特表 2020-526920	複数の堆積した半導体層のスタックを形成する方法	2020年 8月31日
特表 2020-526923	Ｓｉ間隙充填のための周期的な共形堆積／アニーリング／エッチング	2020年 8月31日
特表 2020-525828	インコヒーレント照明の混合を介した位置合わせのための画像の改善	2020年 8月27日
特開 2020-128004	制御された孔隙率を有する印刷された化学機械研磨パッド	2020年 8月27日
特表 2020-524898	ダイ結合用途のための静電キャリア	2020年 8月20日
特表 2020-524899	電子デバイス製造システムにおいて直接的な構成要素同士の接触を介して間隙を較正するシステム及び方法	2020年 8月20日
特表 2020-524900	インデックス可能な側方収容ポッド装置、加熱側方収容ポッド装置、システム、及び方法	2020年 8月20日
特表 2020-524901	側方収納ポッド、機器フロントエンドモジュール、及び、基板を処理する方法	2020年 8月20日
特表 2020-524902	先進的なパッケージアプリケーションのための再配線層形成の方法	2020年 8月20日
特表 2020-524903	電極アセンブリを備えたプラズマチャンバ	2020年 8月20日
特開 2020-124801	付加製造プロセスを用いて高機能研磨パッドを形成する方法及び装置	2020年 8月20日
特開 2020-125544	基板上に被膜を被覆する装置及び堆積装置の２つの堆積源間にガス分離を提供する方法	2020年 8月20日
特開 2020-127029	空間的原子層堆積法による、自己整合ダブルパターニング	2020年 8月20日

312 件中 91-105 件を表示

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2020-526663 2020-526669 2020-526920 2020-526923 2020-525828 2020-128004 2020-524898 2020-524899 2020-524900 2020-524901 2020-524902 2020-524903 2020-124801 2020-125544 2020-127029

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