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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第138位 311件 (2019年:第141位 330件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第136位 210件 (2019年:第156位 176件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2020-524393 | インサイチュの半導体処理チャンバ温度装置 | 2020年 8月13日 | |
特表 2020-524402 | ポリマー構造失活プロセスを用いた選択的堆積プロセス | 2020年 8月13日 | |
特開 2020-122978 | ラインのうねりを低減するための方法 | 2020年 8月13日 | |
特開 2020-123726 | 基板を真空処理するための装置、基板を真空処理するためのシステム、及び、真空チャンバ内で基板キャリアとマスクキャリアを搬送するための方法 | 2020年 8月13日 | |
特開 2020-123728 | ガス流量比制御のための方法及びアセンブリ | 2020年 8月13日 | |
特表 2020-523480 | フレキシブル基板をコーティングするための堆積装置、及びフレキシブル基板をコーティングする方法 | 2020年 8月 6日 | |
特表 2020-523484 | ニッケルシリサイドの抵抗値を調整するためのプロセス統合方法 | 2020年 8月 6日 | |
特表 2020-523782 | 堆積−処理−エッチングプロセスを用いたシリコンの選択的堆積 | 2020年 8月 6日 | |
特表 2020-523786 | ハードマスク及びその他のパターニング応用のための高密度低温炭素膜 | 2020年 8月 6日 | |
特表 2020-523801 | タングステン酸化還元による、シームのないタングステン充填 | 2020年 8月 6日 | |
特開 2020-117435 | 紫外線リソグラフィ用ガラスセラミックス及びその製造方法 | 2020年 8月 6日 | |
特表 2020-522736 | ディスプレイ技術のためのナノ構造の平坦レンズ | 2020年 7月30日 | |
特表 2020-522877 | ワードライン抵抗を低下させる方法 | 2020年 7月30日 | |
特表 2020-522881 | 基板に堆積された膜の品質改善 | 2020年 7月30日 | |
特表 2020-522882 | 炭化ホウ素ハードマスクのドライストリッピング | 2020年 7月30日 |
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2020-524393 2020-524402 2020-122978 2020-123726 2020-123728 2020-523480 2020-523484 2020-523782 2020-523786 2020-523801 2020-117435 2020-522736 2020-522877 2020-522881 2020-522882
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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