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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第56位 541件 (2021年:第132位 313件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第112位 303件 (2021年:第117位 241件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2022-525107 | 温度調整可能なマルチゾーン静電チャック | 2022年 5月11日 | |
特表 2022-525108 | 基板処理チャンバ用のリッドアセンブリ装置及び方法 | 2022年 5月11日 | |
特表 2022-525248 | プロセスキットリングアダプタ | 2022年 5月11日 | |
特開 2022-68153 | 化学機械研磨の温度制御 | 2022年 5月 9日 | |
特表 2022-524034 | 基板処理チャンバ向けのチャッキングのプロセス及びシステム | 2022年 4月27日 | |
特表 2022-524088 | プラズマ処理チャンバにおける高周波(RF)電力印加のための静電チャック | 2022年 4月27日 | |
特開 2022-64894 | 付加製造プロセスを用いて高機能研磨パッドを形成する方法及び装置 | 2022年 4月26日 | |
特開 2022-64922 | ウエハ処理システム向けの熱管理のシステム及び方法 | 2022年 4月26日 | |
特開 2022-64926 | 統合された保護層ツールを用いたリチウム堆積 | 2022年 4月26日 | |
特開 2022-64934 | スリットバルブゲート被覆及びスリットバルブゲートの洗浄方法 | 2022年 4月26日 | |
特表 2022-523630 | 基板処理チャンバ用ペデスタル | 2022年 4月26日 | |
特表 2022-523653 | パルス状電圧波形を制御するためのフィードバックループ | 2022年 4月26日 | |
特表 2022-523661 | 拡大画像の取得およびストレージ | 2022年 4月26日 | |
特表 2022-523695 | 基板洗浄デバイス及び基板洗浄方法 | 2022年 4月26日 | |
特表 2022-523802 | 基板の欠陥を低減するための乾燥環境 | 2022年 4月26日 |
541 件中 301-315 件を表示
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2022-525107 2022-525108 2022-525248 2022-68153 2022-524034 2022-524088 2022-64894 2022-64922 2022-64926 2022-64934 2022-523630 2022-523653 2022-523661 2022-523695 2022-523802
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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